薄膜设备覆盖率提升，高端刻蚀运付量显著增加

1Q25业绩表现强劲，营收同比增长35.40%至21.73亿元，归母净利润同比增长25.67%至3.13亿元。扣非归母净利润同比增长13.44%，综合毛利率提升2.28pp至41.54%。研发投入大幅增长90.53%至6.87亿元。公司高端刻蚀产品付运量显著提升，先进逻辑和存储制造中段关键刻蚀工艺及超高深宽比刻蚀工艺实现量产。期末合同负债30.67亿元，存货74.48亿元，显示订单饱满。

2024年业绩稳健增长，营收同比增长44.73%至90.65亿元，扣非归母净利润同比增长16.51%至13.88亿元。综合毛利率41.06%，同比下滑4.77pp。归母净利润同比下滑主要因研发投入加大及出售拓荆科技股票的投资收益影响。分产品看，刻蚀设备收入72.77亿元(YoY+54.72%)，MOCVD设备收入3.79亿元，新品薄膜沉积设备首台销售贡献1.56亿元，LPCVD设备累计出货量超150台，获得24亿元批量订单。公司完成6种薄膜沉积设备研发交付，钨系列产品通过关键存储客户端量产验证。

研发与产能建设方面，公司在研超二十款新设备，覆盖金属薄膜气相、PECVD、深硅刻蚀、TSV刻蚀、PVD等，先进锗硅EPI设备进入量产验证。南昌(14万平米)和临港(18万平米)生产基地已投产，2024年产值分别约61亿元和85亿元。

投资建议：维持“优于大市”评级。国内半导体设备需求旺盛，公司持续拓展刻蚀、薄膜等领域份额，未来营收规模效应有望显现。预计2025-2027年营收118.96/151.32/193.33亿元，归母净利润22.32/31.38/39.86亿元，对应PE分别为53/37/28倍。

风险提示：下游晶圆制造产能扩充不及预期、新产品开发不及预期、国际关系波动和地缘政治风险。