AI智能总结
维持“增持”评级,上调目标价194.48元。公司刻蚀设备优势明显,薄膜沉积设备取得新突破,业绩有望持续高增,上调其2023-2025年EPS为2.86/3.19/4.12元(原预测2023-2024年为2.34/2.97)。考虑公司刻蚀和MOCVD设备领先地位,国内产线渗透加速推进,给予其2023年68倍PE,目标价194.48元。 业绩持续增长,刻蚀设备市占率持续提升。1H23业绩预告营收25.27亿元,YoY+28.13%,扣非归母净利润5亿-5.5亿元,YoY+13.45%-22.53%。刻蚀设备营收17.22亿元,YoY+32.53%,关键客户市场占有率不断提高。MOCVD设备营收2.99亿元,YoY+24.11%,在新一代Mini-LED生产线上继续保持绝对领先地位。 新产品线不断扩充,薄膜沉积设备取得新突破。根据公司官微,公司推出自主研发的12英寸LPCVD设备Preforma Unifle CW,作为公司业务多元化增长的新动能,目前已顺利导入客户端进行生产线核准。 此外公司正在开发应用于GaN、SiC功率器件的MOCVD设备,EPI外延设备已进入样机的制造和调试阶段。 积极扩张产能,南昌新厂投入使用。根据公司官微,2023年7月7日南昌新厂建成并投入使用。南昌中微主要生产用于LED和功率器件外延的MOCVD设备,目前公司部分产品在细分领域市占率达到全球排名第一,此次新厂落成将进一步提升公司产能。 风险提示:下游晶圆产能扩充不及预期;新品研发和产业化不及预期。