半年报点评：刻蚀设备高速增长，薄膜设备稳步推进

维持“增持”评级，上调目标价164元。公司刻蚀设备加速增长，薄膜沉积设备稳步推进，业绩进入增长快车道，上调其2022-2024年EPS为1.78/2.34/2.97元（原预测2022-2023年为1.75/2.11元）。考虑ICP双机台优势明显，国内产线渗透加速推进，给予其2023年70倍PE，目标价164元。 在手订单充足，ICP加速上量。1H22营收19.72亿元，YoY+47.30%，扣非归母净利润4.41亿元，YoY+615.26%。毛利率45.36%，同比增长3.03pcts，主要系刻蚀设备毛利率的提高。ICP收入4.13亿元，同比+414.1%，CCP收入8.86亿元，，在主要客户中市占率达到30%以上。截至22年6月，共计新签订单30.57亿元，同比增长61.83%，下半年业绩有望维持高增。 CCP新型号持续开发，ICP双台优势显著，公司刻蚀设备业绩高速增长。开发新型CCP，涵盖 5nm 以下逻辑芯片和200层以上3D NAND存储芯片。开发新型ICP，涵盖 7nm 及以下的逻辑、 17nm 及以下的DRAM和3D NAND存储，优化开发双台ICP刻蚀设备。 MiniLED用MOCVD设备陆续放量，薄膜沉积设备验证稳步推进。 公司积极开发针对MiniLED和MicroLED的uniMAX设备，相关LPCVD等薄膜沉积设备进入量产验证阶段，EPI设备进入样机的制造和调试阶段。 风险提示：下游晶圆产能扩充不及预期；新品研发和产业化不及预期。