刻蚀+MOCVD持续突破，薄膜设备等新品进展顺利

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研究报告中,中微公司(688012)在电子领域持续取得了重大进展。公司通过研发和生产高端刻蚀设备和MOCVD设备,以及开发新的薄膜设备等新品,实现了持续稳步增长。在报告期内,公司2023年半年度报告实现营收25.27亿元,同比+28.13%,其中刻蚀设备/MOCVD设备/备品备件及服务分别实现营收17.22/2.99/5.05亿元,同比增长32.53%/24.11%/17.13%。公司强调高研发属性,在逻辑集成电路制造环节,开发的12英寸高端刻蚀设备已应用于国际知名客户最先进的生产线上并用于5纳米及以下器件中若干关键步骤的加工。在3D NAND芯片制造环节,公司的等离子体刻蚀设备已应用于64层和128层的量产,根据存储器件客户的需求正在开发极高深宽比的刻蚀设备和工艺。此外,公司根据逻辑器件客户的需求正在开发更先进刻蚀应用的设备。公司拥有多项自主知识产权和核心技术,已申请2,359项专利,其中发明专利1,991项;已获授权专利1,425项,其中发明专利1,202项。在报告期,公司研发投入为4.60亿元,同比+32.96%,占营业收入比例为18.22%。公司始终强调创新和差异化并保持高强度的研发投入。目前,公司薄膜设备进展顺利。