普达特科技自2026年3月24日以来累计获得29台新设备订单,其中14台为半导体设备,包括单片清洗设备和炉管LPCVD设备,主要面向特色工艺与第三代半导体产线。190℃高温硫酸清洗设备已成功出货,14/7nm节点高性能介质层薄膜沉积Low-K ALD SiOCN炉管设备开发完成。2025财年半导体设备业务确认收入5,980万港元(同比增长118.6%),未确认收入订单2.09亿港元(同比增长31.8%)。这些数据验证了公司业务增长拐点,订单放量显著。
全球半导体设备市场预计2026年同比增长7%至1,450亿美元,中国市场规模40-50亿美元。中国半导体清洗设备本土化率达40-50%,但高端清洗与炉管设备国产化率仍偏低。随着国内企业技术进步,高端环节验证导入窗口打开,如普达特科技5台OCTOPUS交付客户用于28nm制程清洗,Galilee平台LP-SiN和ALD-SiN设备已完成验收与交付,行业发展趋势向好。
报告重点分析了普达特科技在半导体设备领域的订单放量情况、高端工艺突破进展,以及其产品布局与市场竞争力。公司形成了“湿法清洗+炉管”半导体设备矩阵,清洗端产品覆盖6-12英寸硅晶圆,炉管端Galilee平台覆盖90nm至14/7nm制程,多项设备已完成验收与交付,展现了较强的技术实力和市场拓展能力。
全球半导体设备市场预计2026年同比增长7%至1,450亿美元,中国市场规模达40-50亿美元。中国半导体清洗设备本土化率达40-50%,但高端清洗与炉管设备国产化率仍偏低,存在较大市场空间。普达特科技等国内企业在高端环节取得突破,如14/7nm节点高性能介质层薄膜沉积Low-K ALD SiOCN炉管设备开发完成,市场现状显示国产替代加速。
研报提示的主要风险包括订单转化与收入确认进度不及预期,光伏行业低迷与油气价格波动可能影响整体业绩,以及高端设备环节竞争激烈及持续亏损带来的现金流风险。这些风险需关注,但报告同时肯定了公司在半导体设备领域的增长潜力与技术突破,需动态评估。