聚和材料机构调研纪要

调研日期: 2025-09-09 常州聚和新材料股份有限公司是一家致力于成为世界级的材料研发科技公司,以“为行业、客户、员工和社区持续创造价值”为使命的公司。成立于2015年,聚和股份已成为全球领先的光伏导电浆料科技企业。在半导体、新能源汽车和电子浆料等非光伏领域,聚和股份也通过创新的研发理念和高效快速的协作研发,持续不断为市场和客户提供定制化的技术和解决方案,成为与客户共同成长的伙伴。聚和材料始终坚持以客户为中心,通过技术创新和卓越的质量,为客户创造更多的价值,推动行业的可持续发展。 公司发布了《关于签署收购境外公司股权协议暨开展新业务的公告》,公司计划与韩投伙伴使用自有或自筹资金680亿韩元收购SK Enpulse的关于空白掩模的业务板块(包含土地、厂房、存货、设备、专利、在建工程、人员、 技术等)。其中,公司直接或间接出资比例不低于95%。现将互动交流中的主要内容总结如下: 一、此次收购SK Enpluse旗下Blank Mask事业部收购背景与战略方向。 公司自 2022 年 12 月 9 日登陆资本市场以来,始终秉持 “内生增长 + 外延扩张” 的战略目标,致力于打造平台化材料科技企业,目前已形成 “胶、粉、浆” 三大业务板块,但主营业务收入仍主要依赖单一光伏领域。 上市后,公司持续积极接触各类股权投资与并购机会,探索打造平台化材料集团的实现路径。本次合作契机源于公司通过韩投伙伴(KIP)介绍的投资项目,初步了解到标的项目基本情况;经对标的业务开展尽职调查,并结合国内外市场分析研究,公司对该标的前景高度看好,遂在韩投伙伴的牵线下,与SK Enpulse 展开接触。 关于SK海力士相关资产出售的原因:该标的原属SK Enpulse 旗下子公司,战略定位为 “内部供应为主、外部供应为辅” 的事业部建 制。这一布局始于2010 年前后,当时全球掩膜基板、掩膜板等关键材料主要由日本企业主导,韩国三星、SK海力士对关键材料 “卡脖子” 问题存在担忧。为此,三星在韩国扶持S&S Tech 开展掩膜基板相关业务,SK海力士则于 2016 年着手构建该事业部,2018年实现建成投产与产品导入,前后历时近六年。2023-2024 年,该业务导入 SK 海力士体系后,虽以自供为主、少数通过经销商对外销售为辅,但始终未能形成规模效应,难以充分发挥产品技术优势。因此,为进一步释放技术优势、拓展市场需求、提升产能利用率,SK Enpulse决定寻求第三方公司合作,推动该业务实现发展壮大,共同促进 Blank Mask 在中国的本土化、规模化发展,创造更高价值;同时,SK Enpulse也信任公司有能力做大该市场,并保障海力士及相关企业后续产品需求的供应。本次合作历经多方竞价,最终落地实属不易。 二、公司就会议前所征集的问题做相关回答 1、空白掩模版(Blank Mask)是个什么产品,与掩模版是什么关系? 答: 聚和材料自2022年12月9日登陆资本市场以来,始终秉持 “内生增长+外延扩张” 的战略目标,致力于打造平台 化材料科技企业。目前公司已形成 “胶、粉、浆” 三大业务板块,但主营业务收入仍主要依赖单一光伏领域。 上市后,公司持续积极接触各类股权投资与并购机会,探索打造平台化材料集团的实现路径。本次合作契机源于公司通过韩投伙伴(KIP)介绍的投资项目,初步了解到标的项目的基本情况;经对标的业务开展尽职调查,并结合国内外掩膜市场分析研究,公司对该标的前景高度看好,遂在韩投伙伴的牵线下,与 SK Enpulse 展开接触。 关于SK海力士相关资产出售的原因:该标的原属SK Enpulse 旗下子公司,战略定位为 “内部供应为主、外部供应为辅” 的事业部建制。这一布局始于2010年前后,当时全球掩膜基板、掩膜板等关键材料主要由日本企业主导,韩国三星、SK海力士对关键材料 “卡脖子” 问题存在担忧。为此,三星在韩国扶持S&S Tech开展掩膜基板相关业务,SK海力士则于 2016年着手构建该事业部,2018年实现建成投产与产品导入,前后历时近六年。2023-2024 年,该业务导入SK 海力士体系后,虽以自供为主、少数通过经销商对外销售为辅,但始终未能形成规模效应,难以充分发挥产品技术优势。因此,为进一步释放技术优势、拓展市场需求、提升产能利用率,SK Enpulse决定寻求第三方公司合作,推动该业务实现发展壮大,共同促进 Blank Mask在中国的本土化、规模化发展,创造更高价值; 同时,SK Enpulse也信任公司有能力做大该市场,并保障海力士及相关企业后续产品需求的供应。本次合作历经多方竞价,最终落地实属不易。 2、空白掩模版(Blank Mask)产品定义及与掩模版的关系? 答:空白掩模版是掩模版的核心关键原材料,主要通过在超高纯度石英基板上依次完成切磨抛、清洗、镀膜、光刻胶涂胶及产品测试等工序制成。 掩模版又称光罩、光掩模等,是光刻工艺所用的图形母版,其制作核心是在空白掩膜基板上形成特定电路图形,再通过曝光将图形转印到晶圆上,功能类似传统照相机的 “底片”,因此每款新设计的芯片,都需匹配一整套掩模版模具。 由于掩模版需要在空白掩模版基础上进行光罩图案的设计与制作,因此掩模版业务属于空白掩模基板的下游环节。目前掩模版厂商主要分为两类:一类是晶圆厂自行配置的 in-house 厂商,另一类是第三方独立掩模版生产厂商(一般称为Mask Shop)。 3、空白掩模版的技术难点? 答:掩模版基板因其产品高度精密,清洗、镀膜、涂胶、测量四大环节均存在较高的技术挑战,对生产对精度要求极高,其韩国生产基地为最高级别洁净车间,洁净度达 Class1水平。 SKE旗下Blank Mask公司经过近10年积累,在上述环节均建立了领先技术能力。同时,基于该标的在核心技术能力上的积累,产品在关键性能指标上明显优于竞争对手,有助于加速生产节拍,简化工艺控制,从而降低成本,提升产品品质。 4、SKE旗下Blank Mask主要产品及技术水平如何? 答:该标的目前主要产品为适配DUV-ArF 及 KrF 半导体光刻工艺的掩膜基板,主要应用类型为PSM相移掩模版。目前产品已通过SK海力士、TMC、新锐光、迪思微、中微掩模等国内外半导体客户的量产验证,并实现稳定销售。 5、公司是否有布局和洽谈新的外延业务? 答:近年来,公司始终在积极寻找并洽谈能培育第二成长曲线的机会,以完善战略布局。本次与SK Enpulse 的合作得益于 KIP 推荐,双方已建立深度合作关系;KIP对公司管理层的活力、资金实力及运营能力均高度认可,且公司创始人及高管团队此前长期任职于韩国头部 企业,对韩国文化理解深厚,为后续合作奠定了良好基础。 公司认为,日韩地区存在较多国内半导体领域尚未突破的核心原材料资源,未来将依托韩投集团在韩国的资源优势,继续寻找可解决国内“卡脖子” 问题、具备核心价值的原材料相关标的,推进外延布局。具体业务细节需待合作确定后,再向投资人进一步沟通说明。