直接受益于先进制程检测的成长红利

新應材為全球專注於半導體特化材料的供應商，主要產品涵蓋先進微影製程材料（表面改質劑Rinse、底部抗反射層BARC、洗邊劑EBR、清洗劑Cleaner）、先進封裝材料及光學元件材料，客戶涵蓋晶圓代工、光學元件及兩岸面板大廠。公司作為晶圓代工客戶Rinse的獨家供應商，受惠N2、N3產能擴張，預期今明兩年供不應求，客戶產能以逾CAGR＋70%/25%增加，加上N2於2H26進入關鍵放量期，Rinse需求迎來強勁成長，N2專用的底部抗反射層(BARC)和洗邊劑(EBR)出貨量攀升。目前各廠區產能吃緊，預計高雄一期廠1H27達滿載，加速推進高雄二期廠驗證，預計2027年中旬量產。客戶目前全球共20座晶圓廠同步興建中，亞歷桑那加碼投資1,000億美元，隨新擴建的產能陸續開出，公司持續受惠客戶全球擴廠的長期成長紅利。

Krf光阻預計FY27通過驗證，策略性投資效益將逐步發酵。目前DUVKrF光阻進入客戶認證測試階段，圖形規格已符合要求，持續調整細部參數，預計FY27通過驗證，產品應用於1.4nm以下的製程節點，量產進度則配合客戶時程。公司策略投資佈局亦是營運亮點，轉投資方面，新寶紘的UV解黏膠帶進入認證測試階段，持續推進半導體後段材料佈局；昱鐳應材（7932 TI）於今年8月28日登錄興櫃，核心業務為供應CCL大廠高階產品所需樹脂；透過投資歐利得和思微生技掌握原料研發與製造，達成關鍵原料自主。隨轉投資事業研發和產銷推進，除深化新應材在特化材料的縱深佈局外，亦貢獻業外投資收益。

2H26N2進入放量期，FY27多座先進製程產能開出，帶動獲利躍升。展望後市，2H26隨客戶竹科寶山廠P2進入量產，N2邁入關鍵放量期，預期3Q26、4Q26客戶N2產能利率從2Q26的50%躍升至80%、100%；此外，更先進製程節點帶動Rinse用量提升，N2專用的BARC和EBR出貨拉抬，規模經濟效益亦將逐步發揮，加上業外轉投資收益挹注，預期營收與毛利率逐季攀升，FY26獲利挑戰歷史新高。進入2027年，客戶AZP2廠N3量產，加上竹科寶山廠P3和高雄廠P3投入Ｎ2及下世代先進節點量產，新應材高雄廠二期產能預計於2H27開出，預期FY27獲利躍升。富邦預估FY26全年稅後EPS14.90元，YoY+35.1%，FY27全年稅後EPS21.07元，YoY+41.4%。

新應材具垂直整合優勢，掌握原料合成、純化至配方開發的全流程技術，透過自主研發與生產關鍵原料，有助穩定料源與維持品質，遠高於國外大廠的客製化開發與送樣頻率，使競爭力大幅提升。公司聚焦前段黃光微影材料的配方研發，後段材料透過策略合作延伸布局。策略投資方面，新應材串聯台灣化學品的研發與生產量能，建立具高度韌性的半導體在地供應鏈聯盟，在關鍵材料、技術以及轉投資收益上，投資效益將逐步顯現。

富邦預估N3與N2今明兩年仍供不應求，未來隨N2先進製程於2H26進入量產與產能利用率快速攀升，以及客戶於全球加速擴充先進製程產能，公司營收與獲利動能將迎來顯著提升。晶圓代工龍頭廠在3奈米以下製程中，清洗步驟大增，顯影、蝕刻、清洗等特化液體使用量快速成長，隨2奈米進入放量階段，用量持續攀升。為降低運輸及關稅帶來的隱形成本，並提升效率及競爭力，積極推動在地採購政策，目標在2030年將在地採購比率進一步提升到68%，台灣電子化學品業者迎來進口替代商機。新應材已涵蓋Rinse、BARC、EBR…等產品的先進微影材料周邊材料，與國際大廠競爭並切入先進製程供應鏈，並持續開發KrF等DUV光阻，逐步向核心光阻領域延伸，完整產品布局有助強化客戶黏著度及長期成長動能。