电子行业周度点评报告：光刻国产替代从0至1的“蓝海”，AI基础设施投入的“红海”均值得关注

—光刻国产替代从0至1的“蓝海”，AI基础设施投入的“红海”均值得关注 电子行业2025年8月17日 评级：增持（维持） ⚫全行业：本周上证指数上涨1.70%，深证成指上涨4.55%，沪深300指数上涨2.37%，申万电子版块上涨7.02%，电子行业在全行业中的涨跌幅排名为2/31。板块个股涨幅前五名分别为：戈碧迦、上海合晶、盛科通信-U、威尔高、寒武纪-U；跌幅前五名分别为：景旺电子、久之洋、*ST东晶、传音控股、福光股份。 ⚫电子行业：本周电子行业整体周涨跌幅表现乐观，各细分领域均呈上涨趋势。根据申万二级行业数据，元件板块以9.88%的涨幅领涨，表现最为突出，其中被动元件子板块更是以12.32%的涨幅显著领先，对整体板块的带动效应显著。半导体板块整体上涨7.07%，其下数字芯片设计子板块涨幅达到10.18%，表现亮眼。光学光电子板块整体涨幅为2.36%，其中光学元件子板块上涨3.85%，表现相对较好。消费电子板块整体上涨8.26%，品牌消费电子子板块上涨2.76%，消费电子零部件及组装上涨9.01%，显示出消费电子领域的稳健增长。电子化学品板块整体上涨7.54%，电子化学品Ⅲ子板块同样上涨7.54%，表现较为均衡。其他电子板块整体上涨5.07%，与电子化学品板块表现相近。总体来看，电子行业本周元件板块表现最为强劲，而光学光电子板块则相对较弱，各板块间变化差异较为明显。 相关报告 【金元电子】周报20250712 AI与先进封装驱动ABF载板市场扩张，关注国产替代投资机会 ⚫行业要闻 ◆英特尔升级多显卡AI推理，Battlematrix整体性能可提升80%◆英伟达推出全新Cosmos世界模型，赋予机器人推理与规划能力◆英特尔代工展示Intel18A制程非x86参考芯片DeerCreekFalls◆智元推出行业首个机器人世界模型开源平台GenieEnvisioner◆白宫与英特尔谈判内容曝光，特朗普政府或入股芯片制造巨头 【金元电子】周报20250719台积电Q3指引超预期、AI与先进制程成增长双引擎 【金元电子】周报20250725世界人工智能大会，昇腾384超节点引领AI算力新纪元 【金元电子】周报20250801中美芯片博弈再升级，关注H20安全审查背后的国产替代机遇 ⚫公司动态： ◆信维通信：关于调整第四期股权激励计划授予价格的公告◆安克创新：关于签订募集资金三方监管协议的公告◆生益电子：2025年半年度利润分配预案公告◆生益科技：2025年半年度利润分配方案公告◆龙迅股份：股东减持股份结果公告 【金元电子】周报20250808“China forChina”战略已成为全球半导体产业的重要趋势 ⚫投资建议：我们认为，一边是光刻产业链国产替代从0至1的“蓝海”，另一边是AI时代基础设施投入的“红海”，两者均值得关注。从产业链价值角度，光刻产业链光源及投影物镜细分产业链价值量较高，相关公司包括：福光股份、汇成真空、茂莱光学、福晶科技等；围绕海外AI基础设施建设方面，市场对光模块、PCB、液冷关注度已经较高，当下更需挖掘潜在投资领域，如CPO趋势下，FAU的重要性持续提升，相关公司包括：鸿日达、光库科技、杰普特等。 分析师：唐仁杰执业证书编号：S0370524080002电话：0755-83025184邮箱：tangrj@jyzq.cn ⚫风险提示：政策风险、技术替代不及预期风险、市场需求波动风险、供应链风险 目录 一、核心观点...............................................................................................................................................3二、行业跟踪...............................................................................................................................................7三、行业新闻...............................................................................................................................................9四、公司公告.............................................................................................................................................14五、下周重要事件提示.............................................................................................................................19 图表目录 图1：投影式光刻（左）vs直写式光刻（右）......................................................................................3图2：电子束掩模版曝光设备市场规模...................................................................................................4图3：800G及以上光模块持续高增长......................................................................................................5图4：MPO及FAU结构图............................................................................................................................5图5：90°FAU光路偏转结构....................................................................................................................6图6：本周各行业版块涨跌幅...................................................................................................................7图7：本周电子版块：子版块涨跌幅.......................................................................................................8图8：电子板块历史走势...........................................................................................................................9图9：电子板块历史市盈率.......................................................................................................................9表1：本周电子板块个股涨幅前五名.......................................................................................................7表2：本周电子版块个股跌幅前五名.......................................................................................................7表3：下周重要会议.................................................................................................................................19表4：电子行业限售股解禁情况汇总（单位：万股）.........................................................................20 一、核心观点 据杭州网报道，浙江大学首台国产商业电子束光刻机“羲之”已进入应用测试阶段，精度比肩国际主流设备，实现国产纳米级光刻机新篇章。该设备由浙江大学余杭量子研究院自主研发，能够以0.6纳米精度在硅基板上实现线宽8纳米光刻。电子束光刻（e-beam lithography，EBL）属于直接写入式光刻，其不同于DUV（深紫外光刻）及EUV（极紫外光刻）的掩模版式光刻，电子束光刻机通过电子束轰击电子抗蚀剂（光刻胶），将设计图形转移至目标材料上。但由于电子束光刻曝光效率不敌投影式光刻，前者是通过电子束作连续逐点光刻图案转移，而后者则通过掩模版进行较大区域的光刻。 数据来源：AccSci、金元证券研究所 与投影式光刻类似，EBI通向受制于波长的限制。提升光学曝光的分辨率，即工艺节点，投影式光刻的光波从G线、I线、深紫外直至当前的极紫外光。电子束本质是带电粒子，根据波粒二象性理论（𝜆𝑒=1.226√𝑉𝑛𝑚），电子束加速电压越高，电子束的波长越小，分辨率越高。 电子束光刻的核心价值在于超高分率和极高的设计灵活性。其应用领域主要在掩模版制造环节。EBL以其超高分辨率制作最高端集成电路用光学掩模版。其次，EBL可用于前沿纳米器件制造，包括量子点器件（量子计算机用）、光子晶体、纳米光子器件（如等离激元器件）、微纳机电系统、新型存储单元等具有创新性结构或需要突破性尺寸极限的器件。此外，在验证环节，电子束光刻也有一定应用空间。根据TechInsights数据显示，2024年电子束掩模版曝光设备市场规模约9.52亿美元，至2029年市场规模有望增长至13.06亿美元。 数据来源：TechInsights，金元证券研究所 除“羲之”外，我国光刻领域持续突破。DUV方面，根据北京商报报道，科益虹源与中科院相关研究所合作，成功研制出中国首台193 nm ArF准分子激光光源，填补了国内空白，打破了Cymer和Gigaphoton对光刻激光光源的长期垄断。该ArF光源脉冲频率4–6 kHz，性能达到当代光刻机主流水平。此前中科院光电研究院等单位承担了国家02专项课题“40W 4kHz ArF光刻曝光光源研发”，并由科益虹源负责成果产业化，目前ArF光源样机已顺利通过验收交付。 EUV方面，当前ASML主导EUV市场，其光源解决方案为LPP（激光等离子体）。中科院上海光学精密机械研究所（上海光机所）林楠研究员团队选择绕开国外CO₂激光方案，改用高功率固体脉冲激光器来激发锡等离子体。除LPP方案，LDP（激光辅助放电等离子体）、DPP（放电等离子体光源）的方案也值得期待。 光纤通信市场高增，AIDC的scaling仍在延续。本周Lumentum、Coherent公布当季度业绩。25Q2，Lumentum实现营收4.81亿美元，同比增长56%，环