电子行业周报：国产EUV光刻机进展加速

PCB板块领涨电子行业，EUV光刻机国产化取得进展。光刻机是芯片制造的核心设备，国产化进程备受关注。中国自主研发的EUV光刻机预计第三季度进入试生产阶段，采用激光诱导放电等离子体(LDP)核心技术。新凯来展示了多款自主研发的半导体设备。SEMI数据显示，2024年全球光刻设备市场规模达295.7亿美元，预计2029年将达到378.1亿美元。全球光刻机市场被技术领先的企业垄断，ASML占比61%，Canon与Nikon分别占比34%与5%。ASML拥有绝对的技术优势，全年销售了共380台光刻机。中国大陆对光刻机设备需求提升，ASML对中国大陆的销售额增速猛涨。国产光刻机产业链逐渐成形，国家大基金投入超6000亿元，带动集成电路产业稳步发展。集成商层面，上海宇量升科技、新凯来等初创企业自主研发国产先进EUV光刻机，上海微电子与华为共同研发EUV光刻机，有望2026年实现国产EUV光刻机量产。零部件供应商方面，长光集智、科益虹源、国望光学等企业在光学系统领域深入研究，珠海基石科技、徐州博康等企业在材料领域扎根，汇成真空、纳微成像与奥普光电等企业则供应真空应用及测量检测设备。投资建议关注相关投资机会，集成商层面建议关注新凯来、上海微电子，零部件供应商层面建议关注长光集智、科益虹源、国望光学、珠海基石科技、徐州博康、汇成真空、纳微成像、奥普光电。风险提示：光刻机技术限制标准变化、半导体下游需求不及预期、国产替代技术进展缓慢。