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日本半导体设备管制落地,设备国产化持续加速

电子设备2023-05-27蒯剑、李庭旭东方证券✾***
日本半导体设备管制落地,设备国产化持续加速

有关分析师的申明,见本报告最后部分。其他重要信息披露见分析师申明之后部分,或请与您的投资代表联系。并请阅读本证券研究报告最后一页的免责申明。 电子行业 行业研究 | 动态跟踪 ⚫ 日本公布出口贸易管制令征求意见稿结果,与初稿基本一致。5月23日,日本经济产业省公布了出口贸易管制令征求意见稿结果(初稿于3月31日公布),正式版限制范围与初稿基本一致。该文件提出了计划“新增23类禁止出口的尖端半导体生产设备”的出口管制政令,管制适用于包括中国在内的160多个国家及地区,美国、韩国、新加坡等40余个国家获得豁免,计划在今年7月份正式实施。 ⚫ 日本半导体设备占全球市场份额达3成,在清洗、涂胶显影、光刻、晶圆处理等领域均占据重要地位。根据VLSI Research数据,2020年日本在全球半导体设备市场中占据31.1%的市场份额,前道设备市场中,日本在清洗、涂胶显影、光刻、晶圆处理等领域均占据重要地位,其中清洗和涂胶显影领域,日本的DNS和TEL分别为全球龙头。根据中国海关数据,2022年中国大陆步进重复光刻机进口金额14.2亿美元,日本占比28%;等离子刻蚀设备进口金额37.5亿美元,日本占比31%;其他刻蚀设备进口金额为8.72亿美元,日本占比为59.2%;热处理进口金额17.4亿美元,日本占比59%。其他前道设备类别中,我国依赖日本的主要为涂胶显影设备和清洗设备,2019年日本的TEL在涂胶显影领域在全球近乎垄断地位,占据约90%份额,日本DNS在全球清洗市场也占据近半份额,但近年来国内清洗设备发展迅速,在清洗领域对日依赖度降低明显。 ⚫ 国内在大部分成熟工艺节点设备取得突破,先进制程设备仍待突破。单从设备看,去胶设备,清洗设备,管式炉和扩散设备的国产化替代程度较好,而光刻机、关键核心层的刻蚀、金属层的薄膜沉积、离子注入、检测设备等难度比较大的设备,目前国内替代率低。从工艺制程覆盖角度看,国内主流设备厂商在多个环节中可覆盖28nm及以上的应用,可实现对下游的批量供应,14nm及以下设备有望逐步突破。 ⚫ 我们看好半导体设备国产化趋势,建议关注中微公司、精测电子、中科飞测、芯源微、拓荆科技、北方华创、华海清科、盛美上海、万业企业等国内领先半导体设备企业。 风险提示 ⚫ 国产化率不及预期;上游零部件断供风险。 投资建议与投资标的 核心观点 国家/地区 中国 行业 电子行业 报告发布日期 2023年05月27日 蒯剑 021-63325888*8514 kuaijian@orientsec.com.cn 执业证书编号:S0860514050005 香港证监会牌照:BPT856 李庭旭 litingxu@orientsec.com.cn 执业证书编号:S0860522090002 韩潇锐 hanxiaorui@orientsec.com.cn 薛宏伟 xuehongwei@orientsec.com.cn 杨宇轩 yangyuxuan@orientsec.com.cn 张释文 zhangshiwen@orientsec.com.cn 苹果MR树行业标杆,借力AI东风 2023-05-23 半导体行业筑底,存储和GPU涨价 2023-05-21 OPPO终止芯片业务哲库 2023-05-14 日本半导体设备管制落地,设备国产化持续加速 看好(维持) 电子行业动态跟踪 —— 日本半导体设备管制落地,设备国产化持续加速 有关分析师的申明,见本报告最后部分。其他重要信息披露见分析师申明之后部分,或请与您的投资代表联系。并请阅读本证券研究报告最后一页的免责申明。 2 目 录 1.日本半导体设备管制以14nm及以下制程的尖端产品为主 ........................... 4 2. 日本限制政令将对我国涂胶显影、光刻、刻蚀、热处理等设备进口带来影响4 3.国内设备企业有望加速国产替代 .................................................................. 6 4.投资建议 ..................................................................................................... 8 5. 风险提示 .................................................................................................... 8 6. 附录:日本对华限制设备的具体参数 .......................................................... 8 电子行业动态跟踪 —— 日本半导体设备管制落地,设备国产化持续加速 有关分析师的申明,见本报告最后部分。其他重要信息披露见分析师申明之后部分,或请与您的投资代表联系。并请阅读本证券研究报告最后一页的免责申明。 3 图表目录 图1:2020各国家半导体制造设备细分市场份额 ......................................................................... 5 图2:中国大陆半导体设备市场全球占比持续提升 ....................................................................... 6 图3:中国半导体设备进出口额(亿美元) .................................................................................. 6 图4:主要前道设备全球市场规模及国产化情况-2021.................................................................. 7 表1:日本政府新增的半导体方向出口管控对象明细.................................................................... 4 表2:日本在中国进口半导体设备中的占比(亿美元) ................................................................ 5 表3:国内半导体设备相关公司 .................................................................................................... 7 电子行业动态跟踪 —— 日本半导体设备管制落地,设备国产化持续加速 有关分析师的申明,见本报告最后部分。其他重要信息披露见分析师申明之后部分,或请与您的投资代表联系。并请阅读本证券研究报告最后一页的免责申明。 4 1.日本半导体设备管制以14nm及以下制程的尖端产品为主 日本于2023年3月对23种尖端半导体生产设备提出出口管制,并计划于2023年7月正式实施。日本经济产业省(以下简称为:“经产省”)于2023年3月31日提出了计划“新增23类禁止出口的尖端半导体生产设备”的出口管制政令,该管制适用于包括中国在内的160多个国家及地区,美国、韩国、新加坡等40余个国家获得豁免,计划在今年7月份正式实施。 政令限制的设备产品涉及6大类设备。对被限制出口的目标国家而言,从23个品类的产品看,包括极紫外线(EUV)相关产品的制造设备和使存储元件立体堆叠的蚀刻设备等,主要分为光刻及涂胶显影、刻蚀、薄膜沉积、清洗、检测、热处理共六大类设备。以逻辑芯片的性能衡量,它们均为制造14nm及以下的尖端产品所必须的设备,设备制造商需先申请到出口许可,才能将设备向境外运输。 表1:日本政府新增的半导体方向出口管控对象明细 清洗设备 半导体前段工艺中的,除去表面异物的清洗设备 成膜设备 利用等离子旋转晶圆、形成原子级别膜的设备 用于EUV光掩膜的成膜设备 准确形成硅膜、硅化合物膜的设备 热处理 通过热处理,除去薄膜内空隙的设备 曝光 EUV涂覆、显影设备。 防护板(EUV光掩膜方向)生产设备。 ArF液浸式曝光设备。 蚀刻 具有立体结构的最尖端的蚀刻设备 检测 EUV光掩膜检测设备 数据来源:半导体行业观察,东方证券研究所 2. 日本限制政令将对我国涂胶显影、光刻、刻蚀、热处理等设备进口带来影响 日本半导体设备占全球市场份额达3成。根据VLSI Research数据,2020年日本在全球半导体设备市场中占据31.1%的市场份额,前道设备市场中,日本在清洗、涂胶显影、光刻、晶圆处理等领域均占据重要地位,其中清洗和涂胶显影领域,日本的DNS和TEL分别为全球龙头。 电子行业动态跟踪 —— 日本半导体设备管制落地,设备国产化持续加速 有关分析师的申明,见本报告最后部分。其他重要信息披露见分析师申明之后部分,或请与您的投资代表联系。并请阅读本证券研究报告最后一页的免责申明。 5 图1:2020各国家半导体制造设备细分市场份额 数据来源:VLSI Research、东方证券研究所 我国在涂胶显影、光刻、刻蚀、热处理等设备对日本厂商有较强进口依赖性。根据中国海关数据,2022年中国大陆步进重复光刻机进口金额14.2亿美元,日本占比28%;等离子刻蚀设备进口金额37.5亿美元,日本占比31%;其他刻蚀设备进口金额为8.72亿美元,日本占比为59.2%;热处理进口金额17.4亿美元,日本占比59%。其他前道设备类别中,我国依赖日本的主要为涂胶显影设备和清洗设备,2019年日本的TEL在涂胶显影领域在全球近乎垄断地位,占据约90%份额,日本DNS在全球清洗市场也占据近半份额,但近年来国内清洗设备发展迅速,在清洗领域对日依赖度降低明显。 表2:日本在中国进口半导体设备中的占比(亿美元) 设备类型 2022年国内进口金额 来自日本的进口金额 日本占比 光刻机 步进重复光刻机 14.16 3.92 27.70% 其他光刻设备 25.48 9.03 35.40% 刻蚀机 等离子刻蚀 37.49 11.63 31.00% 其他刻蚀 8.72 5.16 59.20% 薄膜沉积-PVD 11.02 0.77 7.0% 薄膜沉积-CVD 37.18 3.83 10.30% 薄膜沉积-ALD 2.52 0.22 8.60% 热处理/氧化扩散 17.4 10.28 59.10% 离子注入 10.62 1.68 15.80% 其他设备 22.44 12.38 55.20% 数据来源:中国海关,东方证券研究所 此次政令可能会影响到10多家日本半导体设备公司对我国的设备出口,包括刻蚀设备龙头东京电子(TEL)、曝光设备龙头尼康(Nikon)、清洗设备龙头迪恩士(Screen)等。其中,东京电子、迪恩士和尼康公司,中国大陆客户营收占比在三家公司最新财年年报分别达到28%、26%、28%,均为其最大收入来源地区。 电子行业动态跟踪 —— 日本半导体设备管制落地,设备国产化持续加速 有关分析师的申明,见本报告最后部分。其他重要信息披露见分析师申明之后部分,或请与您的投资代表联系。并请阅读本证券研究报告最后一页的免责申明。 6 3.国内设备企业有望加速国产替代 中国大陆成为全球第一大半导体设备市场,设备主要依赖进口。得益于中国半导体全行业的蓬勃发展和国家近年来对半导体产业持续的政策扶持,中国大陆半导体设备市场的规模快速增长,2022年中国大陆半导体设备市场达到283亿美元,占全球市场的26%,位列全球第一大半导体设备市场。目前中国半导体设备行业国产化还处于起步阶段,对设备进口依赖程度较大。 图2:中国