半导体行业光刻机国产替代率现状如何？

光刻机国产替代率目前整体约为2.5%，上海微电子作为国产光刻机绝对龙头，其出货量已占国内市场份额超过80%，但主要产品集中在90nm工艺节点的DUV光刻机，28nm浸没式光刻机仍在研发中 【4】 【7】 。从先进制程或整体市场层面看，部分资料提及国产化率“几乎为零”，这与高端光刻机（如EUV）仍完全依赖进口、国内在核心部件（如光源、光学系统）和先进制程技术上存在差距有关 【3】 【5】 。随着政策支持和技术突破，国产替代正加速推进，但整体替代率仍处于较低水平。