688785 恒运昌 深圳市恒运昌真空技术股份有限公司投资者关系活动记录表 2026-017

编号：2026-017 定之后封装入库。 3.请介绍一下等离子体射频电源系统的特点 回答：等离子体射频电源系统被广泛应用于半导体工艺中的薄膜沉积、刻蚀、离子注入、清洗去胶、键合等环节，也被应用于光伏电池片的薄膜沉积、显示面板镀膜、精密光学镀膜、常压等离子体清洗等工业生产环节。等离子体射频电源系统定制化程度较高，在公司与下游设备厂商合作过程中，一般由下游客户向公司提供产品技术指标要求和功能要求，公司根据客户需求自主研发新产品并制作样机供下游客户验证。 4.请介绍一下公司等离子体射频电源系统及其他新产品的研发进展回答：历经十年，公司先后推出CSL、Bestda、Aspen/Basalt三代产品系列。公司第一代产品CSL系列可支持工业级制程，主要用于一般工业领域；公司第二代产品Bestda系列可支撑成熟制程，主要面向半导体领域；第三代产品Aspen/Basalt系列可支撑先进制程，主要面向半导体领域。截至2025年年底，公司第四代产品Cedar系列等离子体射频电源系统处于验证状态，该产品将射频电源和匹配器整合为一体化平台，配备多个中心阻抗应用、可实现快速数据及大数据采集等功能，可支撑更先进制程。截至2025年年底，公司对MFCMEMS传感器的研发已处于完成初样流片及搭载测试平台阶段。结合公司未来发展规划，在产品布局方面，公司将采取双轮驱动发展策略，通过内生研发，持续优化现有产品，提升性能与质量，并拓宽产品品类；同时，公司未来将借助外部并购等战略举措，以进一步增强等离子体工艺核心零部件的供应能力，为客户提供一站式的产品和服务，致力于成为围绕等离子体工艺提供核心零部件整体解决方案的平台型公司。 5.请介绍一下公司目前的竞争优势 回答：（1）技术优势：经过十多年的持续正向研发、不断创新和积累，公司建立了“基石技术+产品化支撑技术”的技术体系，一方面从测量、控制及架构三方面构建的底层通用的3大基石技术，并基于基石技术，结合半导体设备中应用，特别是先进制程中更快速、更精准、更稳定的应用诉求和实现难点，发展出8大产品化支撑技术，实现了突破高端等离子体射频电源系统的先进设计、测量和控制等难题，掌握了信号采样及处理、相位同步锁定、快速调频、脉冲控制等等离子体射频电源系统运行中的关键技术。（2）产品优势：半导体设备及零部件行业具有“精确复制”的要求，等离子体射频电源系统的量产必须确保高度稳定和可重复的生产工艺，且需经过精密的校准和严格的测试流程，以确保性能的一致性和长期稳定性。在此严苛要求下，公司已具备成熟的规模化量产能力，并成为薄膜沉积、刻蚀环节国内头部设备商的战略级供应商。（3）团队优势：截至2025年年底，公司研发人员数量为158人。同时，公司汇聚了一支在等离子体射频电源系统及半导体核心零部件行业拥有二十年以上从业经验的团队。团队成员不仅在技术研发方面拥有卓越的能力和敏锐的洞察力，对半导体行业具有深刻理解和具有丰富的实践经验。 回答：2025年公司产能利用率达98.51%。公司通过多个措施提升产能，包括积极推进子公司恒运昌真空技术（沈阳）有限公司的建设与正式运营，助力其实现从试产到量产的跨越；同时推进深圳产能建设，加速产能落地；公司未来将逐步推进半导体与真空装备核心零部件智能化生产运营基地项目的建设，这些都将有助于后续产能的释放，为公司产能持续提升奠定基础。 7.请介绍一下公司未来的发展规划 以上如涉及公司所处行业发展趋势、公司发展规划等相关内容，不代表公司或公司管理层对行业发展、公司发展或业绩的预测和承诺，不构成公司或公司管理层对投资者的实质性承诺，敬请广大投资者注意投资风险。