拓荆科技 科创3分钟 与成长对话

拓荆科技专注于薄膜沉积设备和三维集成设备的研发与产业化，是国内该领域的领军企业。公司已形成多项国际先进的核心技术和成果，并在CVD、ALD和三维集成设备市场占据领先地位。

核心数据与业绩表现
2025年公司营收65.19亿元，同比增长58.8%；2026年一季度营收11.12亿元，同比增长56.97%。规模效应显著，2025年净利润9.27亿元，2026年一季度5.71亿元。

业务拓展与技术突破
公司持续拓展先进存储、逻辑芯片及三维集成领域，超10款新产品通过客户验证并实现量产。截至2026年一季度末，设备进入约100条生产线，累计量产超5.3亿片晶圆。

产品布局与市场覆盖
薄膜沉积设备领域，公司已布局PECVD、ALD、沟槽填充CVD三大系列，约占市场50%。未来将沿先进逻辑、存储和封装趋势拓展工艺。三维集成领域，公司自主研发多款键合及检测设备，逐步实现量产。

产能与战略规划
2025年上海二厂建成投产，同年沈阳二厂启动建设，预计2028年投入使用以提升产能。公司将持续高研发投入，布局前沿技术，引入高端人才，加强产学研合作，推动技术进步与可持续发展，为股东创造长期价值。