拓荆科技 科创3分钟 与成长对话

00:00:11 大家好，我是拓荆科技董事长吕光权。拓荆科技一直专注于薄膜沉积设备和三维集成设备的研发和产业化，目前已经形成了多项具有国际先进水平的核心技术和成果，是国内集成电路领域专用量产型C V D，A L D和三维集成设备的领军企业。公司IPO上市以来发展迅速，业务规模不断扩大。 00:00:51 2025年，公司实现营收65.19亿元，同比增。增长58.872026%年一季度，公司实现营业收入11.12亿元，同比增长56.97%。同时随着规模效应逐渐显现，公司规模净利润显著增长。2025年度实现规模净利润9.27亿元。2026年一季度实现5.71亿元。2025年面对下游客户不断发展的新需求，公司持续拓展先进存储、先进逻辑等芯片制造及三维集成领域的应用，超过10款新产品、新工艺出货或者通过客户验证，量产规模快速提升。 00:02:00 多项突破性的成果保持了公司的核心竞争优势，并为公司带来新的业务增长点。截至2026年一季度末，公司设备进入约100条生产线，累计在客户产线量产超过5.3亿片晶圆。公司将继续聚焦薄膜沉积设备和三维集成设备领域，面对半导体器件尺寸不断收缩、结构主板3D化的趋势，不断提升产品技术水平，延伸产品覆盖面。在薄膜沉积设备领域，公司已经布局PE。C V D、A L D、沟槽填充CVD三大产品系列约占薄膜沉积设备市场的50%。未来公司将沿着先进逻辑、先进存储和先进封装等领域的发展趋势，持续拓展和布局先进工艺。 00:03:26 在三维集成领域，公司通过自主研发、投资合作等方式拓展三维集成平台化布局，提供成套解决方案。目前，公司已自主研发了多款先进键合设备及配套量检测设备，并逐步实现量产应用。 00:04:00 随着公司业务规模的快速增长，公司也在加快产能布局。2025年，公司上海二厂建成并 投入使用，满足了公司现有产能的需求。同年，沈阳二厂启动建设，预计2028年投入使用，将显著地提高公司产能规模，为公司后续产能提供支撑。未来，公司将继续围绕国家半导体产业的战略需求，提前布局前沿技术和产品，持续高强度的研发投入，不断开拓创新，攻坚技术制高点。引入和培。培养国际高精尖人才，加强产学研合作，共同推进产业技术进步，实现公司的高质量可持续发展，为股东创造长期价值，谢谢大家。