空白掩膜专家掩膜厂科普版总结1空白掩模版技术壁垒

总结1、空白掩模版技术壁垒超高，国际上能做到半导体级产品的企业仅4家，国内半导体级空白掩模版国产化率0 。 3、25年国内空白掩模版市场60亿左右，未来几年随着AI的需求放大，晶圆厂对于高端的空白掩模版需求会呈现指数级增长。 4、PSM空白掩模版中40nm是重要节点，40nm以上制程产品售价一般在小几万rmb 空白掩膜专家—掩膜厂（科普版） 总结1、空白掩模版技术壁垒超高，国际上能做到半导体级产品的企业仅4家，国内半导体级空白掩模版国产化率0 。 3、25年国内空白掩模版市场60亿左右，未来几年随着AI的需求放大，晶圆厂对于高端的空白掩模版需求会呈现指数级增长。 4、PSM空白掩模版中40nm是重要节点，40nm以上制程产品售价一般在小几万rmb单片水平，而40nm及以下产品售价将达到几万美金，而7、14nm空白掩模版产品更是达到10万美金以上水平。 5、毛利率水平极高，由于国内半导体级供给一片空白，国内厂商无法与海外供应商进行议价。 6、SKE产品已经获得海力士内部供应商资质，国内部分厂商也有通过经销售商销售，后续在国内落地较为容易，导入时间不会很长。 专家交流：1.掩模版和空白掩膜版简介 1 ）掩模版主要做图形转移的载体，把设计公司做好的图形，通过开掩模版转移到晶圆上去2）不能有缺陷，会造成成批的不良 2.产业链1）基板材料，不考虑EUV 有两种，一个是石英玻璃，一个是苏打玻璃，石英玻璃是主流2）首先是石英玻璃制造 3）其次，石英玻璃做出来之后需要做研磨、抛光、镀铬、涂胶4）最后，再进行刻蚀薄膜等，做成掩模版成品 3.掩模版的分类与价格1）目前跟随光刻机分为I线、KrF、ArF ；2）价格： 5nm2000 预估其中空白掩模版的价值量在40万美金，高端PSM一片大概1-3万美金 130nm以上是百万人民币 3）从90到14nm的技术难点基板玻璃要求会显著增长；平整度要求会有显著提升，对良率也有要求；研磨90nm需要2小时，研磨14nm需要24h 4.空白掩模版价值量拆分1）180nm以上，材料成本占整个成本比例30% 2）PSM级别，空白掩模成本成长到60%-70% 3）毛利率中低端大概60%，中高端预计在70% 左右 5.市场空间整个掩模市场24年150-200亿人民币，blank mask有50-60 亿 6.In house厂建设的逻辑1 ）大部分订单还是发给第三方掩模版做，主要是保证自主可控，及时补上需求2）外部掩模版公司主要是做比较low的3）内部核算是亏损的，主要是配合公司战略（也就是说空白掩膜版的高端程度远高于其他上市公司里的做的掩模 版） 7.全球做的好的空白掩模版厂商1）目前供应商日本豪雅、信越、韩国SS、SKE 豪雅是全产业链，从石英开始做； 信越主要做BM ；S&S是三星的in-house 厂，是做配套；SKE：之前专家有个同学在SKE，已经被海力士验证过，14nmPSM 已经做出来了 8.新建产能一般需要多久能实现量产1）一年半到2年2）有user case之后，其他厂商会加速验证 9.国内光罩厂对空白掩模版国产化的诉求1）降价； 2 ）交货周期降低：光刻胶使用期限，对温湿度比较苛刻，越早用越好，光刻胶放了几个月，就废掉了，如果从日本买，报关需要很久，会降低光刻胶质量