掩模版是微电子制造过程中的图形转移母版,精度和质量会直接影响下游制品的优品率。掩模版属于定制化产品,具备一定抗周期属性。全球掩模版市场规模约87亿美元,随着制程和产品复杂度的提升,下游产品对于掩模版精度的要求也更高,对于光罩的层数要求也会提升,从而带动全球掩模版市场增长。国内半导体光掩膜版的国产化率约为10%,高端光掩膜版国产化率仅为3%,国产替代空间广阔。本土企业积极布局,均已开始进行针对半导体130nm以下制程节点的项目投资。建议关注路维光电、清溢光电等。
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