IPO专题：新股精要—国内领先的薄膜沉积设备生产商微导纳米

公司核心看点及IPO发行募投：（1）公司是国内领先的薄膜沉积设备生产商，率先将ALD技术应用于光伏领域，并在此基础上继续拓展ALD技术在半导体、柔性电子等方面的应用。公司快速响应市场需求，积累了优质的客户资源，募资将助力公司持续构建技术壁垒，布局新型显示领域。（2）公司本次公开发行股票数量为4544.5536万股，发行后总股本为45445.5359万股，公开发行股份数量占公司本次公开发行后总股本的比例为10%。公司募投项目拟投入募集资金总额10亿元，募投项目落地后将有助于公司把握下游行业发展趋势，持续升级现有产品，提高公司的生产能力和市场份额。 主营业务分析：公司主要从事先进微、纳米级薄膜沉积设备的研发、生产和销售，向下游客户提供先进薄膜沉积设备、配套产品及服务。 得益于公司产品应用领域拓展，公司营业收入呈增长趋势，但因研发费用等上升，净利润水平有所波动，2019-2021年营收和归母净利润复合增速分别为40.81%和-8.06%。产品结构调整导致公司2021年毛利率有所下降，但仍保持45%以上高位，研发投入持续增加导致公司期间费用率呈上升趋势。 行业发展及竞争格局：随着下游光伏行业的快速发展以及太阳能电池技术的迭代，光伏薄膜沉积设备市场空间广阔。根据招股书披露，下游光伏行业向高效率、高性能发展使得薄膜沉积在新一代光伏设备中投资比重增加，预计达到30%左右。半导体设备向高精度化发展带动ALD设备需求快速增长，国产设备进口替代加速。在光伏领域，国内厂商已基本实现国产替代；在半导体领域，制造商主要集中在欧美日，中国企业市场份额较低。 可比公司估值情况：公司所在行业“C35专用设备制造业”近一个月（截至12月6日）静态市盈率为34.67倍。根据招股意向书披露，选择捷佳伟创（300724.SZ）、北方华创（002371.SZ）、中微公司（688012.SH）和拓荆科技（688072.SH）作为可比公司。截至12月6日，可比公司对应2021年平均PE（LYR）为169.35倍，对应2022年Wind一致预测平均PE为70.12倍；对应2021年平均PS（LYR）为20.38倍，对应2022年Wind一致预测平均PS为12.46倍。 风险提示：1）经营业绩波动甚至出现亏损的风险；2）新产品验证进度及市场发展不及预期的风险。 1.微导纳米：国内领先的薄膜沉积设备生产商 公司是国内领先的薄膜沉积设备生产商，率先将ALD技术应用于光伏领域，并在此基础上继续拓展ALD技术在半导体、柔性电子等方面的应用。在传统工艺中，由于存在厚度控制和膜层均匀性的问题，通过CVD与PVD工艺所生成的膜很难突破 10nm 以下的厚度极限。与之相比，ALD工艺可以在100%阶梯覆盖率的基础上实现原子层级的薄膜厚度。 基于上述特性，ALD技术在光伏、半导体、柔性电子等新型显示、MEMS、催化及光学器件等诸多高精尖领域均拥有良好的产业化前景。1）光伏领域：公司进一步通过高产能真空镀膜技术、基于原子层沉积的高效电池技术等核心技术，解决了传统ALD技术速率慢的不足，目前公司量产设备镀膜速率已经突破10000片/小时，高于同行业6000-8000片/小时的平均水平，打破了制约ALD技术应用于光伏领域的产能限制；从镀膜效果来看，公司产品的片内不均匀性、片间不均匀性、批间不均匀性均≤3%，核心性能指标优于同行业可比公司。此外，在PERC电池背面及TOPCon电池正面的氧化铝和氮化硅叠层的制备中，公司开发的PEALD二合一平台能够在同一台设备中完成两种薄膜的制备，除了能提高薄膜质量外，还有效降低了客户单位产能的设备投资成本。2）半导体领域：公司实现了国产ALD设备在 28nm 集成电路制造关键工艺（高介电常数栅氧层材料沉积环节）中的突破，打破了该工艺技术被国外厂家垄断的局面，设备关键性能参数达到国际同类水平。3）柔性电子领域：公司自主开发的FG系列卷对卷设备能够在大幅宽的材料表面沉积阻隔层，具备良好的阻水阻氧能力，能够有效保护OLED器件的性能和寿命，目前已实现产业化应用。随着公司不断深化ALD技术在下一代光伏电池、集成电路、先进存储等方面的技术储备，光伏行业和半导体行业的快速增长将推动公司业绩提升。 公司快速响应市场需求，积累了优质的客户资源，募资将助力公司持续构建技术壁垒，布局新型显示领域。公司主要产品为非标准化产品，通过将基础研发与行业应用紧密结合，以下游企业的实际需求为研发导向，针对客户的工艺和薄膜性能需求快速响应，及时满足客户产线需求，赢得了良好的市场口碑。在光伏领域，公司客户已覆盖包括通威太阳能、隆基股份、晶澳科技、阿特斯、天合光能等行业前十太电池片企业。目前，太阳能电池片技术路线正由PERC工艺向新型高效电池（TOPCon、HJT等）发展，公司在行业中已率先取得TOPCon产线设备订单，相关产品已在客户现场验证。在半导体领域，公司首套用于300mm（12英寸）晶圆的High-k栅氧层薄膜沉积的ALD设备已实现销售。公司已先后获得国内多家知名半导体公司的商业订单，并已与多家国内半导体厂商及验证平台签署了保密协议并开展产品技术验证等合作。通过募投项目公司能继续扩大应用于光伏、半导体、柔性电子领域的ALD设备生产规模，伴随着下游行业对薄膜沉积设备需求的增长，公司有望凭借前沿领域的技术壁垒提高市场占有率，并推动半导体高端装备行业实现国产化替代。 2.主营业务分析及前五大客户 得益于公司产品应用领域的拓展，公司营业收入呈增长趋势，但因研发费用等上升，净利润水平有所波动，2019-2021年营收和归母净利润复合增速分别为40.81%和-8.06%。2019-2021年，公司实现营业收入21581.56万元、31255.41万元和42791.71万元，薄膜沉积设备是公司主要收入来源。分产品应用领域来看，1）光伏领域：公司薄膜沉积设备以ALD设备为主。自2018年以来，光伏行业在PERC电池技术产线投资大幅增加，公司ALD设备镀膜展现了良好的致密性和均匀性，在首台设备获得成功后，迅速打开市场，订单大幅增加。2019及2020年，公司ALD设备基本应用于光伏领域，收入逐年增长。2021年和2022年1-6月，公司ALD设备销售规模和占比下降，主要原因是光伏电池行业在2020-2021年处于由PERC向新型高效电池技术转变的过渡期，下游厂商扩产和采购节奏短期调整；同时，公司推出了PECVD设备、PEALD二合一平台设备，导致当期专用设备订单结构有所变化。随着TOPCon等新型高效电池技术路线确定、成熟度提高，下游客户新型高效电池扩产计划加速，公司ALD设备新增订单数量大幅增长，截至目前公司ALD设备新签订单数量已超过2021年全年镀膜设备订单数量总和，同比大幅增长。PECVD设备、PEALD二合一平台设备等新产品也有望成为客户的工艺选择。2）半导体领域：2021年和2022年1-6月，公司在半导体领域初步取得业务拓展成果，各期专用设备销量中均分别包含1台半导体领域专用设备。随着公司ALD设备在逻辑芯片 28nm 先进制程生产线中实现突破，公司专用设备在半导体领域有望持续实现收入。 图1：2019-2021年公司营收稳步增长 图2：薄膜沉积设备为公司主要收入来源 产品结构调整导致公司2021年毛利率有所下降，研发投入持续增加导致公司期间费用率呈上升趋势。2019-2021年，公司主营业务毛利率分别为53.97%、51.89%、45.83%，整体保持在较高水平。2019-2020年，公司主营业务毛利率基本保持稳定。由于新型高效电池的具体技术路线尚未成为行业共识，相关设备成熟度不高，2021年公司新推出的PECVD设备、PEALD二合一平台设备产品的毛利率较低，其销售收入占比超过45%，进而导致光伏领域专用设备毛利率有所下降，当期主营业务毛利率也同比下降。总体来看，2019-2021年公司毛利率高于同行业可比公司。从各细分领域来看：1）在光伏领域，公司ALD设备的镀膜具有薄膜厚度小、均匀性高、TMA消耗量少等优点，市场认可度较高。公司ALD设备推出时，国内光伏ALD设备生产商只有包括公司在内的少数厂家，公司对于产品定价有相对较高的话语权。同时，公司设备改造业务以相对于整体更换设备较低的价格对客户现有设备进行改造，使其在尺寸、工艺方面能够紧跟市场变化，大幅降低了客户的设备更新成本，附加值较高，2019-2021年公司配套产品及服务的毛利率均保持在70%以上。2）在半导体领域，公司半导体领域设备实现了“卡脖子”技术突破，凭借技术优势取得了高于同行业可比公司平均水平的毛利率。 2019-2021年，公司期间费用率分别为25.73%、33.69%和37.06%，2022年1-6月更是较上年度上升28.80p Ct ，达到65.86%。2019-2021年公司期间费用率逐年上升，主要是由于公司在光伏新型高效电池和半导体各细分领域持续投入，研发人员以及研发项目材料消耗增加，研发费用率显著上升。 图3：2019-2021年公司毛利率保持在较高水平 图4：2019-2021年公司期间费用率呈上升趋势 表1:公司2021年前五大客户 速，截至2021年底我国光伏发电装机量达307GW，同比增长21%，连续7年位居全球首位。根据中国光伏行业协会预测，“十四五”期间我国光伏市场将迎来市场化建设高峰，预计国内年均光伏装机新增规模在70-90GW。从光伏产业链中的太阳能电池片细分领域来看，2021年全球电池片总产量为223.9GW，同比增长37%。我国电池片生产规模自2007年开始已连续14年居全球首位，2021年我国电池片产量为197.9GW，同比增长约46.8%。在产品结构上，根据中国光伏行业协会的统计数据，PERC电池片在2021年的市场占比提升至91.2%，已替代Al-BSF电池。 TOPCon、HJT、IBC和钙钛矿是继PERC电池之后的新兴技术，近年来已有厂商陆续开始布局TOPCon、HJT，属于下一代高效电池技术路线的潜在方向，而IBC和钙钛矿为未来技术，尚处于实验和验证阶段。光伏薄膜沉积设备主要应用于太阳能晶硅电池片的制造环节，2018-2021年我国新建成产线基本全部为PERC产线，生产设备基本实现国产化。对于新型高效电池来说，目前产业化前景最为明确的TOPCon电池和HJT电池对于薄膜沉积的需求更高。随着下游光伏行业向高效率、高性能发展，薄膜沉积在新一代光伏设备中投资比重增加，达到30%左右。 半导体设备向高精度化发展带动ALD设备需求快速增长，国产设备进口替代加速。公司设备适用于先进制程半导体的制造前道工序中的薄膜沉积环节。根据SEMI统计，全球半导体设备销售额从2013年的约318亿美元增长至2021年的1026亿美元，年均复合增长率约为15.77%。根据MaximizeMarketResearch数据统计，全球半导体薄膜沉积设备市场规模从2017年的125亿美元扩大至2020年的172亿美元，年复合增长率为11.2%。预计至2025年市场规模可达340亿美元。从半导体薄膜沉积设备的细分市场上来看，根据Gartner统计，2020年全球半导体薄膜沉积设备中PECVD、PVD、ALD设备的市场规模占比分别为34%、21%和12.8%。在半导体制程进入 28nm 后，由于器件结构不断缩小且更为3D立体化，生产过程中需要实现厚度更薄的膜层，以及在更为立体的器件表面均匀镀膜，ALD技术优势愈加明显，在半导体薄膜沉积环节的市场占有率也将持续提高。2020年我国薄膜沉积设备的国产化率为8%，仍然处于较低水平。伴随着国家鼓励类产业政策和产业投资基金不断的落实与实施，本土半导体及其设备制造业迎来了前所未有的发展契机，而薄膜沉积设备作为半导体制造的核心设备，将会迎来巨大的进口替代市场空间。国产半导体ALD设备的市场规模也将在国产化进程加快的背景下快速提升。 3.2.薄膜沉积设备在光伏领域基本实现国产替代，半导体领域国产化率较低 在光伏领域，国内厂商已基