中微公司刻蚀设备、薄膜沉积设备及MOCVD设备的全球累计出货量、装机量及反应台总数

中微公司在机台方面的情况如下：

1. 刻蚀设备

• 累计出货与装机量：2025年公司刻蚀设备全球累计出货超6800台，其中CCP刻蚀设备累计装机量超过5000反应台，ICP刻蚀设备累计安装数达到1800个反应台 【6】 。
• 技术性能：双台机的片内刻蚀速率匹配精度和重复性达到近1纳米的单原子控制水平，适用于从65纳米到3纳米及更先进工艺的刻蚀领域 【6】 。

2. 薄膜沉积设备

• 出货量：2025年LPCVD设备累计出货量突破300个反应台，EPI设备已进入客户端量产验证阶段，多款导体和介质薄膜设备（如LPCVD、ALD）顺利进入市场 【6】 。

3. MOCVD设备

• 累计出货：截至2025年，MOCVD累计出货量超600腔，其中Micro-LED用新型MOCVD设备订单超1亿元，碳化硅和氮化镓功率器件用MOCVD设备已推向市场 【6】 。

4. 反应台总数

• 截至2025年底，公司累计有7800余台等离子刻蚀和化学薄膜反应台，在国内外170+条生产线实现量产和大规模重复性销售 【6】 。

5. ICP单台机增长

• ICP单台机PrimoNanova累计安装机台数量近三年复合增长率超过70% 【1】 。