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根据报告，刻蚀是集成电路图形转移方式，是用化学、物理、化学物理结合的方法有选择的去除（光刻胶）开口下方的材料。刻蚀设备市场超过130亿美元，是晶圆设备占比最高的市场。国内刻蚀业务前三大企业分别为中微公司、北方华创、屹唐半导体。国内刻蚀厂商加速导入，以长江存储、华虹无锡、华力集成的招投标数据进行分析，这三家晶圆厂的刻蚀环节上，国内设备产线的国产化率（以机台数量计算）平均约为20~30%。北方华创ICP刻蚀机领域国内领先，累计交付突破1000腔，12英寸突破28nm以下制程。中微公司刻蚀产品线逐步成熟，从CCP向ICP快速开拓。屹唐股份刻蚀产品处于国际先进、国内领先地位。
