这份研报主要分析了北美光芯片行业的发展趋势,包括EML与CWLaser的产能扩张及价格趋势、OCS业务出货及Google需求展望、电信及数据中心互联业务增长前景,以及硅光渗透率及下一代光芯片技术路线。报告重点探讨了2026至2028年的产能规划、需求缺口、技术演进等关键数据与研究结论。
光芯片赛道未来发展趋势显示,硅光渗透率将持续提升,预计2026年达到40%,2027年提升至60-70%。2028年整体产能预计达到5亿颗,其中大功率光芯片年增超100%。单波200G和400G EML存在显著需求缺口,推动硅光占比持续提升。3.2T光模块中,硅光占比将高于EML,市场潜力巨大。
研报重点分析了EML与CWLaser的产能扩张及价格趋势,OCS业务出货及Google需求展望,电信及数据中心互联业务增长前景,以及硅光渗透率及下一代光芯片技术路线。报告详细解读了各业务板块的市场表现和未来规划,并提供了关键数据与研究结论,如2027年2.5亿颗、2028年5亿颗的产能规划,以及大功率光芯片的快速增长趋势。
当前光芯片市场现状显示,EML与CWLaser产能持续扩张,2026年CW总产量约300-350万颗,其中低功率占85%,大功率占10-15%;2027年大功率产量预计达2000-2500万颗。EML产量约1.1-1.2亿颗,单波100G占75%,200G占25%。OCS业务出货快速增长,2026年Q3出货1600台,全年约5000台。DCI市场驱动相干光模块和PumpLaser需求快速增长。
研报提示,尽管光芯片市场前景广阔,但也存在一定风险。单波200G和400G EML存在显著需求缺口,可能影响部分企业产能利用率。硅光占比提升虽是大趋势,但技术成熟度和成本控制仍是挑战。此外,市场竞争加剧可能导致价格下降,影响企业盈利能力。部分客户需求可能存在不确定性,影响订单稳定性。