这份研报指出高端HVLP铜箔供给端存在硬约束,主要因为HVLP4良率天花板约75%而行业实际良率仅50%-63%,且核心设备产线仅德福具备进口设备,自研表处能力加持下,供需缺口或持续至2029-2030年。供给硬约束是产能与良率的物理现实,而非预期。
PCB电子铜箔行业正经历技术迭代,mSAP从光模块向服务器、交换机全场景扩展,1.6T光模块PCB全面转向mSAP,铜箔端边际变化最大的是载体箔进度超预期。三井和国内德福等企业在mSAP载体箔方面取得进展,技术升级是铜箔链中确定性最高的方向。
研报重点分析了高端HVLP铜箔供给端的硬约束问题,以及mSAP技术迭代带来的增量机会。同时探讨了涨价传导时差,指出当前是PCB/CCL利润兑现期、铜箔利润蓄水期,铜箔是本轮景气周期中偏后但弹性更大的环节。
当前中小PCB厂已完成4-5轮提价,Q3净利率修复至10%+,但铜箔端反馈涨价的高弹性或集中于2027年。高端HVLP铜箔供给端存在硬约束,供需缺口或持续至2029-2030年,市场整体处于供需错配阶段。
研报指出高端HVLP铜箔供给端存在硬约束,可能导致供需缺口持续至2029-2030年,这是市场需关注的主要风险。此外,mSAP技术迭代虽然确定性高,但技术扩散和规模化应用仍需时间,市场需关注技术落地进度和产能释放节奏。