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非金属建材行业研究:光刻胶七问七答,聚焦半导体核心部件与材料(二)

电子设备 2026-09-06 李阳,谭宸 国金证券 李强
非金属建材行业研究:光刻胶七问七答,聚焦半导体核心部件与材料(二)

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光刻胶在半导体制造中扮演什么角色?

光刻胶是晶圆制造的核心材料,用于在硅片上形成微电路图案。随着AI等技术的需求增长,光刻胶市场景气度提升。其价值量与技术壁垒随光源波长提升而增强,ArF和KrF光刻胶是市场增长的主要驱动力。目前全球供给高度集中,日本厂商占据主导地位,国内高端产品依赖进口。

中国半导体光刻胶行业的发展趋势如何?

中国是全球最大的光刻胶消费市场,但高端产品依赖进口。随着晶圆产能扩张,特别是中国大陆的扩产,预计2024-2029年中国半导体光刻胶市场规模CAGR约15.5%。国产替代进展已突破g/i线,KrF进入验证放量期,但ArF和EUV仍待突破,核心难点在于原材料自研和客户验证。

报告重点分析了哪些方面?

报告重点分析了光刻胶的市场需求与增长、供给格局与进口依赖、政策风险与国产替代进展及难点。梳理了A股相关标的,包括半导体光刻胶、显示与面板光刻胶、PCB光刻胶与上游材料等领域的企业,并提示了客户验证、高端原料受限、下游景气波动等风险。

当前光刻胶市场的现状如何?

全球光刻胶供给格局高度集中,前六大生产商占据约83.91%的市场份额。日本厂商主导高端市场,我国CR10收入中日本厂商占比达76%。中国大陆是扩产主力,2025年晶圆总产能同比增长15%。国产替代紧迫性提升,但树脂与光引发剂等原材料仍依赖进口。

光刻胶行业面临哪些风险?

光刻胶行业面临的主要风险包括客户验证周期长、高端原料与设备受限、下游景气及开工率波动、行业竞争加剧与价格下降、技术路线变化等。日本对华出口管制持续趋严,ArF和EUV光刻胶被纳入清单,审批周期延长至90天,增加了国产替代的难度。