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NAND制造转向钼字线技术

2026-08-23 未知机构 Bach🐮
报告封面

3DNAND在十年前就停止了侧向缩小,它通过堆叠层来扩展。️"但是当层数超过~300层时,连接每个存储单元的钨字线遇到了瓶颈:电阻太高,基于氟的化学反应导致泄漏,而且在超深孔中填充失败。️解决方案是钼。️更低的电阻(更快的读/写速度),无需氟化物,而且它能更好地填充高深宽比特征。️钼不是一种优化,它对于300+层NAND是必需的。️(1/4)【为何3DNAND存储在300层节点发生技术转向】小于300层:采用钨(W),技术已达极限1.性能受损,信号传输缓慢2.存在漏电风险,制程构建不稳定3.制程构建失败,孔洞深度