事件:SK海力士重启中Goμ大连NAND工厂二期建设
根据韩媒报道,SK海力士在停工4年后重启中Goμ大连NAND闪存生产基地二期建设,预计扩产5万片/月,形成韩Goμ高层堆叠、中Goμ低层堆叠的“双轨生产”模式。
核心观点
- 中Goμ设备出海启动:中Goμ大连工厂作为海外客户的首个中Goμ设备应用场景,随着全球景气复苏,多个fab预计重启,海力士已接触多家中Goμ设备厂商并获订单。
- 设备短缺加速出海进程:全球景气度提升导致海外设备交期延长至1年以上,缺设备、缺零部件背景下,中Goμ设备“出海”已进入现实阶段,从中Goμfab走向海外fab。
- 高景气驱动下Goμ制造业全球化:本轮高景气为Goμ设备企业带来机遇,中Goμ设备在十四五期间已具备较强竞争力,十五五期间将加速全球布局。
出海相关标的
- 零部件环节:富创精密、茂莱光学、新莱应材等已较成熟,重点推荐。
- 设备环节:屹唐Gμ份、盛美上海、中微公司、华海清科、华峰测控等出海加速,重点推荐。