半导体 衍射光栅代工能力介绍

衍射光栅代工能力介绍 摘要 睿克光学依托成熟的微纳测量测试(Micro-nanoMeasurementTest)资源，深耕半导体微纳加工(SemiconductorMicro-nanoProcessing)领域，与各大高校、科研院所深度合作。公司配备全套高端微纳加工设备，覆盖光刻(Photolithography)、刻蚀(Etching)、镀膜(Coating)全工艺流程，可适配小片至12英寸晶圆加工，兼容多类基材，可为客户提供一站式微纳图形(Micro-nanoPattern)定制加工解决方案，充分满足各类科研及产业化加工需求。 一、核心设备配置 搭载全流程高端微纳加工设备，覆盖微纳加工核心工艺环节。光刻设备配备EVG、Canon等国际主流型号，支持小片基材至12英寸晶圆(Wafer)规模化加工，适配玻璃、硅片、石英等多种常用基材，精度稳定、适配性广，为衍射光栅高精度代工提供硬核设备保障。 二、衍射光栅核心代工能力 公司具备全类型衍射光栅(DiffractionGrating)定制代工能力，可加工表面浮雕光栅(SurfaceReliefGrating)、体光栅(VolumeGrating)等主流光栅产品。 依托电子束光刻(ElectronBeamLithography)、离子束刻蚀(IonBeamEtching)、纳米压印(NanoimprintLithography)三大核心工艺，可精准把控光栅周期(Period)、占空比(DutyCycle)、调制深度(ModulationDepth)等核心参数，加工的周期性微结构规整度高、一致性好。 同时配套提供基底处理(SubstrateTreatment)、薄膜沉积(ThinFilmDeposition)、 精度校准等一站式后处理服务，全方位保障产品品质。产品广泛应用于光波导(OpticalWaveguide)、光谱学(Spectroscopy)、激光器(Laser)等领域，可承接不同精度、规格的定制化代工需求。 三、经典加工案例 反射光栅(ReflectiveGrating)：步进式光刻，加工精度 光栅相位板(GratingPhasePlate)：步进式光刻工艺加工 睿克光学——专注高端微纳图形、衍射光栅定制代工服务