- 传统铜箔:价格持续上涨,供需关系持续收紧。7月头部企业集体调价,锂电铜箔产能利用率预计2027年升至98%,PCB电子铜箔库存低位,满产满销。
- 高端铜箔:
- HVLP4:AI服务器需求爆发,2025年全球出货1.7-2万吨(四代约3000吨),2026年需求攀升至3万吨,国产厂商良率提升空间大,头部企业已接近三井水平,但良率仅3-4成。
- 载体箔:可剥离超薄铜箔技术壁垒极高,国内厂商已实现从0到1突破,开发出1.5-2 mμ超薄载体铜箔,通过多家载板厂及芯片终端认证,获得小批量订单。
- 公司进展:
- 铜冠铜箔:国内唯一HVLP1-4全量产,四代25年底验证通过、26Q2量产,月产50吨(年底目标200吨),供台光生益间接进英伟达;五代中试送样,领先同行1年+。
- 德福科技:通过松下认证,台光、生益加速导入,Q3四代铜箔预计出货破60吨,Q4提速;31亿投5万吨高端AI铜箔,绑定英伟达、AMD。
- 方邦股份:载体箔龙头,1.5/2 mμ产品对标三井,通过多家载板厂及芯片终端认证,持续小批量订单;月产能100万平(年底翻倍至200万平),光模块客户认证中。
- 三孚新科:新设广州德胜祥生产HVLP4和载体铜箔,采用电解铜箔(外采)→减铜→精细电镀→化学后处理工艺,预计年内上3-5条线(单线800-1000吨)。
- 研究结论:铜箔板块已充分调整,加工费上行周期持续,HVLP4和载体箔仍待技术突破,2028年高端铜箔供不应求,铜箔板块有望成为AI主线。建议关注传统铜箔厂德福科技+铜冠铜箔,新技术关注三孚新科、方邦股份。