- 核心观点:国产半导体相关公司看好先进制程对薄膜控制的极致要求,ALD作为核心设备国产化率仍低,但随本土扩产渗透率加速提升;高纯铪作为卡脖子材料,140吨氧化铪项目三季度投产将受益需求爆发与价格上行;半导体板块业绩弹性加速释放,解胶剂与光学保护剂替代加速,二氯二氧化钼前驱体打开空间。
- 关键数据:
- 140吨氧化铪项目:全球未来3年核心增量供给,三季度投产。
- 2026年测算:钼代钨加...
- 建议关注:
- ALD设备:微导纳米(国内龙头)、迈为股份(攻克干法刻蚀设备,高选择比刻蚀市场份额高)。
- 高纯铪:140吨氧化铪项目。
- 研究结论:半导体板块国产化加速,业绩弹性释放,建议积极关注相关公司。