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Zeiss瓶颈缓解:围绕Zeiss相关瓶颈的问题预计在2027年后有所缓解,ASML已准备好应对更高需求,并积极与供应商合作提高2027年洁净室产能,产能限制应从2027年后逐步消除。
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NA EUV产能扩张:低NA EUV产能可轻松扩展至90台以上,新增订单量远高于历史水平,订单积压达390亿欧元。ASML预计2028年交付的NA光刻机数量(目前为85台/年)有望突破90台,且有能力在需求更高时交付更多NA光刻机。到2030年,若客户订单量达到2026/2027年水平,ASML将满足相应设备需求。
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高NA产能上限:2028年后的订单可见度较低,引发对高NA产能上限的更多疑问。ASML鼓励关注低NA光刻机在1000W光源下的生产效率提升(将在SPIE上亮相)。
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高NA一层(HVM)决策:台积电是否在2030年采用高NA一层(HVM)仍有待观察,ASML则更乐观,预计今年年底高NA出货量将大幅提升,2029年及之后有望在有意义层数上实现HVM制造。
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2030年销售目标:ASML对11月重新审视2030年440-600亿欧元的销售目标持谨慎态度,管理层更关注扩大业务而非短期趋势。2026年预测显示,2030年销售预测比2022年高出610亿欧元。
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裁员计划:拟议的裁员(净裁员1700人)主要针对中层管理人员和与业务表现无关的不受薪人员,旨在清除官僚主义,简化流程并加快决策。
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研究结论:重申买入评级,目标价1500欧元。ASML处于有利地位,能从高NA领域领先地位中获益,由AI需求驱动。2030年及之后毛利率路径显著提升有充分理由,目标价相当于2027年预期每股收益的37倍,合理反映了其垄断地位、工具升级价值及战略供应链价值。长期风险情景包括出口限制、DRAM支出不及预期及晶圆厂竞争。