核心结论
AI算力奔涌推动升级,重塑供应格局。国产HVLP铜箔已从验证阶段迈数量产阶段,头部企业以德福科技和铜冠铜箔为首形成双引擎,带动行业集中突破。
主要逻辑
- AI服务器带来PCB全新机遇,HVLP铜箔为上游关键材料。 AI服务器中全新GPU板组的引入,推动PCB实现量价齐升。HVLP铜箔具备低信号损耗、高密度集成等优势,在AI服务器中应用位于GPU板托盘(UBB和OAM模块)及交换机板。
- CCL迭代路径明确铜箔高端化升级趋势。 CCL迭代路径确立铜箔高端化升级趋势:传统服务器迭代推动M6材料应用,AI服务器升级转向M8材料,2026年起ASIC和GB300平台有望向M9演进。HVLP铜箔核心参数是粗糙度(B-side Rz),直接影响信号完整性和高频传输性能。
- 日系主导全球HVLP铜箔供给,HVLP铜箔国产替代提速。 日系企业占据HVLP高端市场(HVLP4代及以上)主要份额,2025年8月三井金属上调销量预期映射高景气需求。国内铜箔企业通过低端锂电产能转产、投资并购加速追赶,国产HVLP替代已从验证阶段迈数量产阶段。
铜箔行业:高稼动率+产品结构调整驱动盈利触底回升
- 铜箔行业盈利能力触底回升,高稼动率+高端产品结构调整提升盈利中枢。 2025年以来部分企业销售结构趋向高端化产品调整(锂电高抗拉/硅基铜箔、HVLP铜箔),叠加全球新能源汽车及储能行业下游景气度高企,驱动国内铜箔头部企业稼动率稳步提升。
- 加工费触底回升支撑利润修复。 锂电铜箔加工费和电子电路铜箔加工费均出现温和反弹,主要系企业挺价诉求强烈,叠加产品结构优化提升整体售价。
- 铜箔行业资本开支当前处于历史低位,企业战略重心聚焦高端产能转换和技术创新。 头部企业如德福科技、铜冠铜箔将资本开支集中于HVLP和载体铜箔国产替代。
HVLP铜箔双子星加速追赶,高端化突围在即
- 德福科技:锂电PCB双轮驱动,海外并购铸就全球铜箔龙头。 公司深耕电解铜箔领域,锂电+PCB铜箔双轮驱动格局全面形成。通过海外并购卢森堡铸就全球铜箔龙头,预计2026年有望形成超7000吨高端HVLP铜箔产能。
- 铜冠铜箔:台系CCL核心配套,高端产能转产拥抱需求景气。 公司是国内电子电路箔领军企业,高端HVLP铜箔率先放量。已构建覆盖HVLP 1-4代的完整产品矩阵,目前以二代出货为主,四代进入下游终端测试阶段。
风险提示
- AIPCB需求不及预期
- 技术升级不及预期
- 市场竞争格局恶化