电子专题报告：光刻机国产化迫在眉睫，关注产业链投资机会

核心观点

• 光刻机是芯片制造的核心设备，其原理是将高能雷射光穿过光罩，将电路图形透过聚光镜，将影像缩小后成像在预涂光阻层的晶圆上。
• 提升光刻机分辨率的主要路径是更短波长和增大数值孔径，更短波长的光源推动分辨率提升，例如从i-line的220nm到KrF的110nm，再到ArF的65nm，以及EUV的8nm。
• 全球光刻机市场规模超过300亿美元，ASML一家独大，其市场份额超过80%，主要占据高端光刻机市场，而Nikon和Canon主要在低端市场。
• 国内晶圆厂建设潮和AI快速发展带动国内光刻机需求持续攀升，预计到2026年底，大陆12英寸晶圆厂的总月产能有望超过414万片。
• 美国持续加大对华半导体设备出口管制，导致我国芯片制造面临“卡脖子”困境，实现光刻机国产化迫在眉睫。

关键数据

• 2024全球光刻机市场规模约为315亿美元。
• 2022年，ASML、Canon、Nikon在光刻机市场份额分别为82.1%、10.2%和7.7%。
• 一条300mm（12英寸）月产1万片晶圆产线，大致需要8台光刻机。

研究结论

• 建议关注国产光刻机产业链，受益标的有茂莱光学、福光股份、汇成真空、英诺激光、苏大维格、芯碁微装等。
• 风险提示包括宏观环境风险、产业政策变化的风险、市场竞争加剧的风险等。