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研报重点内容总结:
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公司业绩概览:2023年上半年公司营收为25.3亿元,同比增长28%;实现归母净利润为10亿元,同比增长114%;实现扣非净利润为5.2亿元,同比增长18%。二季度非经常收益主要归因于公司出售拓荆科技股票,产生税后净收益约4亿元。
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公司产品与市场情况:刻蚀机设备已对28纳米以上的绝大部分CCP刻蚀应用和28纳米及以下的大部分CCP刻蚀应用形成较为全面的覆盖。公司致力于提供超高深宽比掩膜(≥40:1)和超高深宽比介质刻蚀(≥60:1)的全套解决方案。开发了用于超高深宽比掩膜的刻蚀的ICP刻蚀机和用于超高深宽比介质刻蚀的CCP刻蚀机。这两种设备都已经开展现场验证,目前进展顺利。随着新的ICP产品不断推出,公司在先进逻辑芯片、先进DRAM和3D NAND的ICP验证刻蚀工艺覆盖率有望扩展到50%-70%不等。
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公司风险:半导体周期波动,下游晶圆厂扩产不及预期,新产品进展速度不及预期风险。
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公司基本情况:公司基本情况不变。
结论:公司业绩稳步增长,产品线丰富,覆盖面广泛。公司注重技术研发,且随着市场需求的增长,公司产品市场占有率不断上升。虽然面临半导体周期波动和下游晶圆厂扩产不及预期等风险,但公司基于自身强大的技术实力和市场需求,仍然具有较好的成长潜力。维持“买入”评级。