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荷兰政府发布了关于先进半导体设备的出口管制新条例,将对光刻、沉积等工艺环节的部分设备、软件及材料进行管制。ASML和ASM厂商将受到主要影响,其中ASML的EUV光刻机和ALD及外延设备的管制为此次条例新增范围。此次管制条例虽然主要针对先进制程,但未受影响的光刻机等设备在良率等性能上有所落后,长期看仍然会影响我国半导体产业的发展。建议关注我国光刻、沉积、外延设备领域的领先厂商,以及产业链上游的软件、材料供应商。