光刻机作为半导体制造的核心设备,占晶圆厂整体设备资本开支超20%。在美国出口管制升级与海外设备大幅涨价的双重夹击下,国内光刻机产线的设备国产化已从备用验证转变为战略必选项。当前,国产DUV光刻机在光源、双工件台、物镜系统等核心环节屡有技术突破,预计2026年有5-12台出货。近期光刻行业的重要变化是量产机交付。
菲沃泰卡位DUV光刻机核心耗材市场,将充分享受国产设备出货量由个位数向百台级攀升的产业红利。公司独家攻克DUV光刻机核心膜层技术,打破海外垄断,成为目前国内浸润式DUV相关镀膜的唯一供应商。公司独家掌握有机无机杂化配方技术,解决了超疏水与耐紫外问题。