光刻机系统极为复杂,包含光源、光学、工件台、对准、调焦、传输、框架及控制系统等。其中,光学系统(含照明和投影物镜)是关键部分,物镜对精准成像至关重要。国内光刻机国产替代市场潜力巨大,i-line设备已量产,D系列设备在研发中,E系列设备可期。2024年,中国大陆销售额占ASML总销售额约36%(约84.6亿美元)。预计2026年,中国半导体设备市场规模将超4000亿元,光刻设备占比持续提升。