2025年年度报告 2026-023 2026年4月 2025年年度报告 第一节重要提示、目录和释义 公司董事会及董事、高级管理人员保证年度报告内容的真实、准确、完整,不存在虚假记载、误导性陈述或者重大遗漏,并承担个别和连带的法律责任。 公司负责人姚舜、主管会计工作负责人于泳群及会计机构负责人(会计主管人员)于泳群声明:保证本年度报告中财务报告的真实、准确、完整。 所有董事均已出席了审议本报告的董事会会议。 本报告中所涉及的未来计划、发展战略等前瞻性描述不构成公司对投资者的实质承诺,投资者及相关人士均应当对此保持足够的风险认识,并且应当理解计划、预测与承诺之间的差异,注意投资风险。 公司在本报告第三节“管理层讨论与分析”之“十一、公司未来发展的展望”中“(四)对公司未来发展战略的实现产生不利影响的风险因素及公司采取的措施”部分,详细描述了公司经营中可能存在的风险及应对措施,敬请投资者关注相关内容。 公司经本次董事会审议通过的利润分配预案为:以2025年12月31日公司股份总数265,320,683股扣除回购专用证券账户中已回购股份1,020,200股后的股本264,300,483股为基数,向全体股东每10股派发现金红利3.86元(含税),送红股0股(含税),以资本公积金向全体股东每10股转增0股。 目录 第一节重要提示、目录和释义....................................................................................................................................2第二节公司简介和主要财务指标.................................................................................................................................7第三节管理层讨论与分析...........................................................................................................................................11第四节公司治理、环境和社会....................................................................................................................................41第五节重要事项........................................................................................................................................................633第六节股份变动及股东情况.......................................................................................................................................1022第七节债券相关情况..................................................................................................................................................1122第八节财务报告........................................................................................................................................................1133 释义 第二节公司简介和主要财务指标 一、公司信息 二、联系人和联系方式 三、信息披露及备置地点 四、其他有关资料 五、主要会计数据和财务指标 公司是否需追溯调整或重述以前年度会计数据 □是否 公司报告期内经审计利润总额、净利润、扣除非经常性损益后的净利润三者孰低为负值□是否 六、分季度主要财务指标 七、境内外会计准则下会计数据差异 1、同时按照国际会计准则与按照中国会计准则披露的财务报告中净利润和净资产差异情况 □适用不适用公司报告期不存在按照国际会计准则与按照中国会计准则披露的财务报告中净利润和净资产差异情况。 2、同时按照境外会计准则与按照中国会计准则披露的财务报告中净利润和净资产差异情况 □适用不适用公司报告期不存在按照境外会计准则与按照中国会计准则披露的财务报告中净利润和净资产差异情况。 八、非经常性损益项目及金额 适用□不适用 □适用不适用 公司不存在其他符合非经常性损益定义的损益项目的具体情况。 将《公开发行证券的公司信息披露解释性公告第1号——非经常性损益》中列举的非经常性损益项目界定为经常性损益项目的情况说明 □适用不适用 公司不存在将《公开发行证券的公司信息披露解释性公告第1号——非经常性损益》中列举的非经常性损益项目界定为经常性损益的项目的情形。 第三节管理层讨论与分析 一、报告期内公司从事的主要业务 (一)主营业务 公司主要专注于超高纯金属溅射靶材和半导体精密零部件的研发、生产和销售。其中超高纯金属溅射靶材包括铝靶、钛靶、钽靶、铜靶以及各种超高纯金属合金靶材等,这些产品主要应用于超大规模集成电路芯片、液晶面板制造的物理气相沉积(PVD)工艺以制备电子薄膜材料。半导体精密零部件包括金属、陶瓷、树脂等多种材料经复杂工艺加工而成的精密零部件,主要用于半导体芯片以及平板显示器生产线的机台,覆盖了包括PVD、CVD、刻蚀、离子注入以及产业机器人等应用领域,其生产过程对于材料精密制造技术、表面处理特种工艺等技术要求极高,产品主要出售给晶圆制造商作为设备使用耗材或出售给设备制造商用于设备生产。 (二)主要产品 1、超高纯金属溅射靶材 公司主要生产超高纯金属溅射靶材,包括超高纯铝靶材、超高纯钛靶材及环件、超高纯钽靶材及环件、超高纯铜靶材及铜合金靶、钨钛靶、镍靶和钨靶等。 (1)超高纯铝靶材 超高纯铝及其合金是目前使用最为广泛的半导体芯片配线薄膜材料之一。在其应用领域中,超大规模集成电路芯片的制造对溅射靶材金属纯度的要求最高,通常要求达到99.9995%(5N5)以上,平板显示器用铝靶的金属纯度略低,一般要求达到99.999%(5N)以上。目前,公司生产的铝靶已经广泛应用于超大规模集成电路芯片、平板显示器制造等领域。 (2)超高纯钛靶材及环件 在超大规模集成电路芯片中,超高纯钛是最为常用的阻挡层薄膜材料之一(相应的导电层薄膜材料为铝)。钛靶材及环件主要应用于130-5nm工艺当中,钛靶材及环件配套使用,其主要功能是辅助钛靶完成溅射过程,以实现更好的薄膜性能并达到更高的集成度要求。目前,公司生产的钛靶、钛环主要应用于超大规模集成电路芯片制造领域。 (3)超高纯钽靶材及环件 在先端的铜制程超大规模集成电路芯片中,超高纯钽是阻挡层薄膜材料。钽靶材及环件是在90-3nm的先进制程中必需的阻挡层薄膜材料,主要应用在最尖端的芯片制造工艺当中。因此,钽靶材及环件是靶材制造技术难度最高、品质一致性要求最高的尖端产品,在此之前仅有少数几家跨国公司能够生 产。特别是钽环件生产技术要求极高,目前只有公司及头部跨国企业掌握了生产此产品的核心技术。近年来随着高端芯片需求的增长,钽靶材及环件的需求大幅增长,全球供应链极其紧张。目前,公司生产的钽靶材及环件主要用于超大规模集成电路芯片制造领域。 (4)超高纯铜靶材及铜合金靶 超高纯铜靶材及铜锰、铜铝合金靶材是目前使用最为广泛的先端半导体导电层薄膜材料之一。在其应用领域中,超大规模集成电路芯片的制造对溅射靶材金属纯度的要求最高,通常要求达到99.9999%(6N)以上,平板显示器用铜靶的金属纯度略低,要求达到99.999%(5N)。铜及铜合金作为导电层通常用于90-3nm技术节点的先端芯片中。特别是铜锰合金靶材制造难度高,目前只有公司及头部跨国企业掌握了生产此产品的核心技术。近年来随着高端芯片需求的增长,铜锰合金靶材的需求大幅增长,全球供应链极其紧张。公司生产的铜及铜合金靶材主要用于超大规模集成电路芯片、平板显示器制造领域。 (5)超高纯钨靶材 超高纯钨靶主要应用在IC集成电路存储芯片中,是存储芯片的“金属骨架”,在3D NAND工艺中作为薄膜种子层。半导体级超高纯钨及合金靶纯度需达到5N以上(99.999%),关键特定有害杂质(如Na/K等)需控制在千万分之一以下水平。近年来存储芯片市场由人工智能(AI)和高带宽内存(HBM)技术重塑,导致超高纯钨靶的市场需求激增,全球供应链极其紧张。目前只有公司及头部跨国企业掌握了生产此产品的核心技术,近年来公司生产的超高纯钨靶已在多家国际知名存储芯片制造商实现批量应用。 2、半导体精密零部件 超大规模集成电路芯片PVD、CVD、刻蚀机等半导体设备由各种精密零部件结合构成,这些部件主要包括传输腔体、反应腔体、膛体、圆环类组件(Ring)、腔体遮蔽件(Shield)、保护盘体(Disc)、冷却盘体(Cooling Arm)、加热盘体(Heater)、气体分配盘(Shower Head)、气体缓冲盘(Block Plate)等;材料包括金属类(不锈钢、铝合金、钛合金)、非金属类(陶瓷、石英、硅、高分子材料)等;制造工艺包括超精密加工、扩散焊、氩弧焊、真空钎焊、表面处理、阳极氧化、等离子喷涂、热喷涂、特殊涂层、超级净化清洗等。在芯片先进制程生产工艺中,各种精密零部件作为耗材被广泛使用,零部件产品对精密制造技术、表面处理特种工艺等技术要求极高。目前,公司生产的零部件产品包括设备制造零部件和工艺消耗零部件,主要用于超大规模集成电路芯片制造领域。 (三)主要经营模式 1、采购模式 公司依据销售订单和生产计划制定具体的采购计划,结合主要原材料的现有库存量、采购周期、在途时间等因素计算具体的采购数量,并确保一定的安全库存量。对于主要原材料的采购,公司已经建立了稳定的原材料供应渠道,与主要供应商结成了长期稳定的战略合作伙伴关系,根据制定的采购计划实施采购;对于其他原材料的采购,公司通常会选择2-3家合格供应商(单一供应商除外),建立多家供货渠道,经询价后确定供应商并及时采购入库。 2、生产及研发模式 由于公司的终端用户多为世界一流芯片制造企业,各客户拥有独特的技术特点和严苛的品质要求,为此公司根据客户的个性化需求采取了定制化的生产模式。研发生产的产品在材料、成分、形状、尺寸、性能参数等诸多方面存在着不同,公司生产具有“多品种、小批量”的特点。在产品研发及设计前期,公司要投入大量精力与终端客户进行技术、品质、性能的交流,当产品通过客户评价后,生产部门在接到来自销售部门的客户订单后,即根据订单制定生产计划,实行“以销定产”的生产模式。 公司已经掌握了超高纯金属溅射靶材生产中的核心技术,形成了晶粒晶向控制、材料焊接、精密加工、产品检测、清洗包装等在内的完整业务流程,通过合理调配机器设备和生产资源自主组织生产,实行柔性化生产管理。在半导体先进制程领域,公司持续紧跟下游客户不同的技术路线演变需求和变革需求,从而实现先进制程领域超高纯金属溅射靶材在客户端的规模化量产。同时,公司将在半导体用超高纯金属溅射靶材领域长期积累的技术研发、品质保障、客户