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本土ALD龙头,战略发展半导体前景广阔

2026-01-08 中泰证券 朝新G
报告封面

微导纳米(688147.SH)光伏设备 2026年01月08日 证券研究报告/公司深度报告 评级:增持(首次) 分析师:王芳执业证书编号:S0740521120002Email:wangfang02@zts.com.cn分析师:杨旭执业证书编号:S0740521120001Email:yangxu01@zts.com.cn联系人:冯光亮Email:fenggl@zts.com.cn 报告摘要 本 土ALD设 备 龙 头 厂 商 , 半 导 体 业 务 战 略 性 发 展 。公 司 成 立 于2015年 ,以ALD/PECVD等薄膜沉积技术起家,成立初主要业务覆盖光伏领域,2018年开启半导体领域设备研发,半导体业务从2021年开始贡献收入并进入快速发展阶段,截至目前已形成了以原子层沉积(ALD)技术为核心,化学气相沉积(CVD)等多种真空薄膜技术梯次发展的产品体系。在半导体领域,公司聚焦ALD设备并持续拓宽技术平台,目前已拓展至CVD等更广泛的薄膜沉积领域,后续将逐步拓展至更多领域。在光伏领域,公司率先实现ALD技术在光伏电池生产的规模化应用,是高效电池技术与设备领军者,相关产品市场份额连续多年位居国内同类企业第一,持续引领行业技术迭代。 总股本(百万股)461.16流通股本(百万股)461.16市价(元)75.71市值(百万元)34,914.22流通市值(百万元)34,914.22 半导体业务:聚焦ALD技术,CVD持续突破。薄膜沉积为半导体晶圆制造中的核心设备,24年国产化率约18%,仍极不充分。其中随着先进制程的结构3D化、材料复杂化、深宽比持续上升,ALD成为能满足这些要求的重要沉积方式。公司在2020年率先研制出国内首台量产型High-k原子层沉积设备,成功应用于28纳米制造节点。公司当前已涵盖了行业所需主流ALD薄膜材料及工艺,相关产品可覆盖逻辑、存储、先进封装、化合物半导体、新型显示(硅基OLED等)等诸多细分应用领域。同时公司积极拓展至CVD领域设备,CVD设备在硬掩膜等关键工艺领域已实现产业化突破,其中PECVD已实现产业化应用,LPCVD已进入产业化验证阶段。从订单规模看,半导体业务快速发展,25Q1-Q3公司合计新签半导体业务订单14.83亿元,yoy+97%,处于快速发展阶段,其中大部分订单均来自于NAND和DRAM领域头部客户。 光伏业务:光伏领域ALD龙头,静候景气回升。公司光伏领域ALD产品的营收规模、订单总量和市占率方面连续多年占据国内第一,有良好的业务基础。未来在光伏发电成本持续下降和新兴市场需求增长等有利因素的推动下,全球光伏新增装机仍有望持续增长,光伏市场有望明后年逐步复苏,新型电池技术路线正逐步成为电池技术的主要发展方向。公司当前已覆盖TOPCon、XBC、钙钛矿及钙钛矿叠层等新型电池技术路线。同时,ALD也有望解决固态电池产业化难点,打开新的应用空间。2025年国内固态电池出货量预计是10GWh,到2028年有望增长至30GWh,期间CAGR达44%。渗透率来看,全球固态电池渗透率当前较低,有望在2030年达到10%,若公司ALD技术可应用于固体电池,该领域未来或有望成为公司业务的第三大组成部分。 相关报告 投资建议:我们预计公司2025-27年有望实现营收为26.19/26.92/37.21亿元,YoY分 别 为-3%/3%/38%, 对 应 毛 利 率 为33%/35%/38%。 归 母 净 利 润 分 别为3.12/4.25/7.36亿元,同比增长37%/36%/73%。我们选取同为半导体设备企业的北方华创、中微公司、拓荆科技和同为光伏设备企业的迈为股份、捷佳伟创作为公司的可比公司,可计算得可比公司2025-27年PE分别为66/50/39倍,同期公司PE为112/82/47倍。考虑到下游存储产线扩产与升级的确定性,公司两存敞口大,有望充分受益,结合公司在ALD/CVD领域积极布局,推出多款新产品,有望持续放量,盈利能力也有望后续恢复至行业平均水平,首次覆盖,给予公司“增持”评级。 风险提示:技术开发及升级迭代风险;市场竞争加剧风险;研报使用信息更新不及时;第三方数据失真的风险。 内容目录 一、本土ALD设备龙头,战略发展半导体业务........................................................4 1、深耕ALD/CVD等薄膜技术,拓展半导体与泛半导体领域应用....................42、公司股权集中,核心团队经验丰富................................................................63、战略布局半导体业务,处于换挡提速关键期.................................................8 二、半导体业务:国内ALD龙头,CVD持续突破.................................................11 1、薄膜沉积:近百亿美元大市场,24年国产化约18%..................................112、ALD:技术优势明显,先进领域用量显著提升............................................123、微导纳米:ALD/CVD技术深度布局,受益下游扩产..................................15 三、光伏业务:静候景气回升,技术迭代拓展空间.................................................18 1、光伏市场有望逐步复苏,技术迭代拓宽应用空间........................................182、ALD有望应用于固态电池领域,打开成长上限...........................................203、公司光伏产品覆盖多技术路线,受益迭代进程...........................................21 四、投资建议............................................................................................................24 五、风险提示............................................................................................................26 图表目录 图表1:公司发展历程..............................................................................................4图表2:公司产品矩阵..............................................................................................5图表3:公司股权结构及主要子公司/参股公司(截止2025年9月30日)...........7图表4:公司核心高管团队(截止2025年12月12日).......................................7图表5:2019-25Q3公司营收及增速.......................................................................9图表6:2020-25Q3公司归母净利及增速................................................................9图表7:2019-25H1公司营收结构...........................................................................9图表8:22Q4-25Q2公司在手订单情况(亿元)....................................................9图表9:2019-25Q3公司毛利率情况.....................................................................10图表10:2020-25Q3公司费用率情况...................................................................10图表11:2019-25Q3公司研发费用情况(亿元).................................................10图表12:2023-26年薄膜沉积设备市场规模(亿美元).......................................11图表13:2023年半导体设备投资占比情况...........................................................11图表14:2020年薄膜沉积细分设备占比情况........................................................11图表15:2020年全球薄膜沉积设备竞争格局.......................................................12图表16:PVD、CVD、ALD薄膜沉积效果示意图................................................12图表17:PVD、CVD、ALD薄膜沉积效果示意图................................................13图表18:T-ALD技术原理......................................................................................13图表19:PE-ALD技术原理...................................................................................13图表20:S-ALD技术原理......................................................................................14图表21:逻辑芯片各制程节点ALD应用环节数量................................................14图表22:存储芯片各制程节点ALD应用环节数量................................................14图表23:逻辑、存储领域的结果升级使ALD成为先进制程中的重要技术...........15图表24:随着先进芯片制程复杂度上升,ALD工艺层数显著增加.......................15图表25:2024年全球ALD设备市场竞争格局......................................................15图表26:公司半导体设备产品分类(截至2025年1月).....................................16图表27:3DNAND结构示意图..............................................