光刻机：半导体技术之巅，国产替代空间广阔

光刻机：半导体技术之巅，国 产替代空间广阔-20250529_原文 2025年06月02日20:24 发言人100:02 各位投资者，大家晚上好啊。今天晚上我们主要会对光刻机的一个核心构成以及它的整个产业上，目前已经公开在各种公告上或者它的一个投资者交流问答上，能够查到明确信息的这些相关标的进行汇报。在当前的一个中美博弈之下，其实可以看到就是对于整个美系的厂商的限制在不断的增强。同时对于这种最先进制程相关的生产工具，包括它的相关材料整体的各种方面的制裁，都在通过一个场地管辖的方式去不断的加强。国内的各类贩子也是陆续的上了这个实体清单的名单，这个对于他们的一个设备采购，其实会造成一个非常大的影响。即使有些可能不会明确的告知你说我不卖你设备，它可能也会无限的去延长这个交期，然后来期待这个政策上有一些松动。 发言人100:43 所以整个无论是从这个产业链的角度，还是从最终的一个客户群体来说，其实对于国产设备的一个态度在陆续转变，工程机其实也是国产化最急切，或者说大家关注最高的一个板块。那这个板块其实在前几年，大家可能更多的人关望到的是一些公司在做研发方面投入，包括可能有一些对整机的一些期待。那其实到了今年开始，陆续陆陆续续会有更多的一些产业链上面相关的一些消息。无论是他从设备上的一个投入，还是说他对整机的一个产能的布局，都可以看到一些披露�来的动态信息。其实可以看到就是整个产业是在进入一个量产，或者说在真正意义上去完成一些产线上的国产替代。这个其实已经迈�了非常大的一步。 发言人101:29 从整个技术的演进来讲，可能就是说没有大家想象的说能够一步跨越到非常先进的这个制程设备。但是从整个的研发，包括它的这个布局来说，可以看到其实各类的钢筋锁，包括这个产业链向相关公司也都做了非常布局，非常多的一个布局。今天也是想就整个光刻机的一个相关产业链，以及如何去理解哪些公司它究竟是负责哪个板块，以及如果哪些的一些采购行为或者是产能扩张行为代表了这个产业化的持续推进，帮大家做一个更好的一个处理，首先这个光刻机肯定是整个先进制程扩产最卡脖子的一个环节。那其实从目前的一个技术路径来说，通过这种多重曝光的方式，可以使用这种近模式的CDOE，把这个制程推进到7纳米左右的一个水平。但这个基本上已经是DUV设备的一个极限。所以即使如果说要想生产更小限宽的这种产品，那一定是需要这种最先进的EUA设备。那从目前的一个设备可取得的一个状态来说，可能最多就是能够从海外进口到这种相关的一个DOA设备。因此其实国产化去做一个突 破，其实是非常至关重要的一点，也是最终能否在整场科技战中去取得一个最终胜利的一个关键要素的。 发言人102:46 从整个设备的一个构成来说，光刻机它是由多个子系统构成，这个里面它会涉及到一个多学科的一个多项技术的一个精密度。无论对他的整体的一个加工的精度，还是说他对这个技术的难度，以及包括他对后端软件算法这些要求，其实都是非常高的一个要求。而且这种技术难度会随着它整个产品向更先进产品推荐会有一个极大的变化。其中比如说计算功课可能是在EV环节，也就是这种软件算法的这种优 化，包括它的一个去进行布局。发言人103:18 其实在这种越是高端的制程的光刻机设备上，它的能体现越明显，那对应到如果是传统的这种I线或者基线设备，其实它的一个量产，包括它的一个技术难度，相比于这个DAV或者是EUA产品，其实都还是有有一定的差距。所以这个为什么从整体的一个产业跨度来看，那可能I线设备会能够更快的去进入到一个实际量产一个状态。那在后续来看，可能能够进行产业化的可能就是这种卡拉P的这种DUV设备。其实像建模式的一个光刻机，它因为增加了整个一个建模式模块，所以这个模块的一个调整，包括它因为这个模块的存在而带来的一些光路上的一个设计的方面的一些调整。其实这个也是我们还需要去学习功课的。 发言人104:00 与此同时，其实对于EV，无论从高校团队还是说从产业团队来看，也已经开始了各个子系统模块的一个预演，包括也有一些相关的一些专项项目，会在明年上半年的时候会陆续有一些落地或者说是结项。其实这个结算就意味着在这些核心的一些业务V零部件上，我们会有一些产品能够实现一个基本上的一个替代了。那从这构成来看，这里面最核心的可能还是这种光学系统。那如考虑到如果是这种比较大型的DUV或者EUV，它的机械部件其实量也是非常庞大的。 发言人104:33 因为如果看到阿斯麦的一些UV设备的话，其实可以看到它是虽然说它最昂贵的部分可能还是光学的部分。但是它从整个设备的一个体积上，包括它的一个机械部件构成上，可以看到它的机械的零部件的规模是非常大的。所以因此其实去配套这种光学机械设备的机械件，它本身的一个体量也是比较大的。但这个的突破难度可能没有说像是，光学系统这么难。 发言人104:54 那这个光学系统里面又可以拆分为这种光源系统，以及它的这个光学系统。这个光源其实就是光的一个发射源。它的这个构成会根据它究竟是一个I线还是一个DV设备，还是EV设备，会有一个非常大的一个技术现象的不同。 发言人105:09 光学系统里面涉及到我们所大家关注比较多的像雾镜系统，包括它的一些光路前端的光路以及它整体的。如果涉及到后面，比如说是静默式定位，它可能还涉及到一些静模式的一个模块，如果说它的这些机械相关的一些部件，主要是工作台和演播台，包括它的一些自动对准系统，调焦调频测量系统，以及可能会相对不是那么困难去做的一些传晶圆硅片的这种传输系统。然后同时还会涉及到为了使得整个环境能够稳定而产生的一些相关的一些框架，或者减震或者环境控制系统，同时还有包括相关的一些真空等等部件。 发言人105:46 从这个功课难度以及主要的这个专项，其实都是集中在这种光学，包括它的一些测量这些部分。这个里面其实又可以拆分为照明和投影物镜两个核心组成部分。目前其实比较多的一个上市公司的一个布 局，可能都是在这个物镜及照明系统环节。也有部分的公司可以去参与到这种，比如说光源的一个零部件的一个环节，还有很多这种机械部件公司可能能够去参与到机械部件一些生产当中。 发言人106:13 如果具体来看的话，其实光刻机它的一个所谓的性能就是主要是根据这个日历准则。在这里面它其实有两个比较重要参数，一个是光源的波长，一个是所谓的孔径。这个光源波长期主要就是对光源本身去做 一个技术性的突破，那那所谓的光学器件的一个数据口径来看，则是通过对整个物镜系统的一个设 计，来去做这样一个调整。那就是为什么我们的一个整体的研发可能都聚焦在一个是光源，一个是在这种路径的一个突破上，那从这个光学的整个部件来拆分的话，其实可以看到这个里面还分这个照明系统。这个照明系统里面又可以拆分为光速的处理系统、光筒整形、能量探测、光场匀化、可变夹缝、中继成像和偏振照明等等单元。 发言人106:57 这个当然了，其实它的一个作用就是怎样能够让我们激光光源所发射�来的光当中的这些所谓的可能是杂质，或者说是一些光的一个角度，怎么样去把它做调整。然后能够让它最终实现这个光光路的整个一个清晰，以及它这个光的一个纯净，包括它怎么样能够达到我们所需要的一个能量，并且要保证它十分的均匀。所以通过这样复杂的一套光学路线的一个设计，能够让最终的一个所得的光能够满足我们去做实际功课的一个需要。那在这个过程中，其实这是上述的一个光学系统。 发言人107:34 那我们的这个工作台，其实它主要是进行一个非常高精密度的一个运动。那这个运它一定是有一个触动和一个系动，所以两个环节。所以它这就为什么会有，它会有一个比较高的一个对于这个浮动移动的运动的精密度的一个控制的要求。同时为了提高整体的一个光刻机的一个效率，所以就是为什么拉斯曼会推�这个双工作台，它是为了能够同步的去进行整整个的一个两个工作，能够让提高整个金源的一个实际的一个效率。 发言人108:04 那从整个的一个结构来看，我们认为这个里面价值量比较高的可能会集中在整个物金系统，包括它的一个光源，然后其中还有比较多的配套的一些相关的一些光学的部件，其实这些的价值量也会比较高。但另外一个价格比较高的可能就是这个工作台。这个工作台就是要同时实现测量和曝光两个功能，那通过这样同时实现这个功能它。表面上提高了生产效率，但是也提�了一个新的要求。就是怎么样能够保证你的这样同时进行的过程中，它的节拍能够稳定匹配，并且这个精度也能够保证。所以这就是工作台研发的一个困难。 发言人108:40 如果先看这个光源，因为光源其实是我们首先是决定了这个光刻机它究竟是一个什么技术路线的一个重要环节。这个光光刻对光源波长，它其实经历了从G到I到最终的UV，它的整体的一个波长是在不断的缩小的。从这个暗线也就是3.5纳米，到这个EV的13.5纳米，其实这个里面它对于这个光源本身的一个技术要求来看，已经发生非常大的变化。像原本我们最早说其实I线可能是用的这种汞灯，那目前其实可能也会部分会被这种LED光源去替代。相比于这个传统汞灯，它LD光源可能会更多的一个首先是更长寿命，就是它可能在整个的使用环节中，它的部分性能会更好。 发言人109:22 从最难的这种UV的光源来看，其实它本身是一种激光等离子体光源。这个其实从最开始的一个研发技术路线上，是有多种不同的一个技术路线的那最终实际在生产和应用的主要是这个LTP技术。之前其实还在研发的，包括大家可能知道的，比如说LDP技术或者是DPP技术，还有自由电子激光器技术等等。这些其实都是在之前，就是经过几轮研发之后，这个LTP是最先进入实际生产的一个技术线。而且这块的话应该是主要的两家光源供应商，一个是收购了一家，另外一家是日本那家厂商都是这个技术路 线，它的一个运行原理，就是通过这种高强度的一个激光仪表台的一个相互作用，使得板材吸收层被加 热气化，并且产生一个等离子体。然后在这个等离子体持续在加热的过程中去释放一个超宽光谱辐射。那在这种状如果在一个热平衡的一个状态下，那就可以去产生这种波长处于13.5纳米附近的一个这样的一个产品。 发言人110:30 从阿斯麦它实际商业化应用的这个光源中，它其实是采用了一种双脉冲激发的一个方案。它这个作用原理大概就是可能吸液滴产生器将这个吸液滴供给这个作用区域，然后通过这个预脉冲激光精准的去轰击它。通过CD从而使它扩散成一个是以是以那个形状分布，然后再用你的主脉冲激光去进行一个轰 击，从而产生这个机子外观，然后产生的这个机子外观再被收集并所收集，然后经过这种光谱纯化传输至光刻系统来进行曝光订阅。 发言人111:01 他之前的这种最早推�的这种产品主要是功率大概在250瓦左右，其实这个瓦数也是在逐步的去提升。如果在每台机器大概是在20左右的一个曝光线下，才能够实现每小时170片左右的12寸晶圆的一个产量产产量。那如果是在它其实比较先进的一个光刻机上才能够实现更高的一个光刻机产量。而且这块应该会持续的去做一个相关的一个优化。 发言人111:30 从这个LPP的一个光源构成来看，其实主要是包括这个核心的部分，就包括这个驱动激光光束控制传输模块，真空系统以及我们这个所谓的液滴吸法的产生器。然后包括最终的这个收集定以及我们配套的一个污染控制模块。所以从这个部分来看，其实可以看到，其实它虽然是一个光源，但它其实内部又可以拆分成几个不同的部件，而去生产这几个不同部件，它所需要的能力其实还是不同的。包括这个里面的这个所谓的，收集镜，以及它的一个激光器部分。其实不同的厂家他可能还会采用一些，就是略有它实际采用的一些技术上还会略有一些不同。所以其实最终的一个虽然都是可能都是LTP的一个光源，但它其实从专业角度来说，还是会更有一些自己的一个差异。 发言人112:21 其实从目前从供应角度来说，像阿斯麦他自己是一个供应商，日本的那家公司其实也在供应阿斯麦，包括其他的一些，主要是日本的两大光刻机厂商去供应这个相关一个光源。然后从整体的一个构成来说的话，可以看到其实目前采购日本那家厂商的一个光源产品，还是可以获得的。但是如果说后面继续去加强这个，比如说加强日