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半导体制造工艺要求
半导体制造工艺通常在真空环境下进行,对设备零部件的精密度和密封性要求极高。刻蚀机与薄膜设备的托盘轴等关键部件,其平面、平行和尺寸公差精度需小于几十微米,且部分大尺寸零部件仍需达到微米级别的精密度。
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晶鸿精密的设备与技术优势
晶鸿精密布局先进精加工及检测设备,进口约200台欧洲和日本高端设备(价值近10亿元),包括5轴联动加工中心、5面体加工中心等。公司配备蔡司、莱兹大型龙门检测设备,可检测6米×8米×2米的大型零部件,计量精度达0.3微米+L/1000微米。凭借这些设备,公司可制造长4米、宽2米、高2米的大型传输腔体及5-6米腔体支撑框架等大型高精密件。产品涵盖半导体设备真空腔体、高精度零部件、游星片、陶瓷盘和主轴,并提供ODM服务(设计、生产、装配及测试)。
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盈利预测与投资评级
随着我国半导体设备放量,晶鸿精密半导体设备零部件业务有望加速放量。预计公司2025-2027年归母净利润为20/22/27亿元,对应股价PE为18/17/14倍,维持“买入”评级。
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风险提示
下游扩产不及预期,研发进展不及预期。