2024年中报点评：24Q2业绩增势强劲，新品拓展加速

核心观点与业绩表现

拓荆科技2024年半年度业绩表现强劲，营收和归母净利润均实现同比增长。Q2业绩环比大幅提升，主要得益于新工艺机型出货增加和产品验收周期拉长。公司合同负债和存货均显著增长，反映在手订单和出货量的大幅增加。全年预计反应腔出货量将超1000个，为后续收入持续高增奠定基础。

产品线与技术进展

CVD产品线日渐完备，工艺覆盖持续提升。公司覆盖PECVD、ALD、HDPCVD、超高深宽比沟槽填充CVD等多个品类，并推出多项新工艺。具体进展包括：

• PECVD：覆盖ACHM、LoKⅠ、LoKⅡ等先进介质膜材料，推出晶圆背面薄膜沉积、SiC器件薄膜沉积等新工艺；
• ALD：首台PE-ALD SiN设备通过验证，Thermal-ALD通过验证并取得重复订单；
• HDPCVD：持续获得重复订单，累计出货超70个反应腔；
• 超高深宽比沟槽填充CVD：作为新产品已通过客户验证，出货超15个反应腔；
• 混合键合设备：晶圆对晶圆键合、前表面预处理设备均取得重复订单，键合套准精度量测设备亦获订单。

投资建议与风险提示

维持“推荐”评级，预计2024-2026年营收分别为40.56/56.89/73.20亿元，归母净利润分别为7.45/12.13/17.15亿元，对应PE分别为46/28/20倍。看好公司在半导体薄膜设备领域的领先地位。风险提示包括产品验证不及预期、下游行业周期性波动、市场竞争加剧。