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【CT电新】苏大维格:高附加值产品占比持续提升,盈利能力大幅改善

2023-08-25未知机构绿***
【CT电新】苏大维格:高附加值产品占比持续提升,盈利能力大幅改善

【CT电新】苏大维格:高附加值产品占比持续提升,盈利能力大幅改善公司23H1营收7.88亿元,同比-10.47%;归母净利润0.12亿元,同比+784.54%;扣非净利润0.03亿元,同比+122.70%;毛利率20.25%,同比+4.57 pcts。单23Q2营收3.95亿元,同比-18.23%;归母净利润0.11亿元,环比增长10倍;扣非净利润0.07亿元,环比扭亏为盈;毛利率22.14%,同比+【CT电新】苏大维格:高附加值产品占比持续提升,盈利能力大幅改善公司23H1营收7.88亿元,同比-10.47%;归母净利润0.12亿元,同比+784.54%;扣非净利润0.03亿元,同比+122.70%;毛利率20.25%,同比+4.57 pcts。单23Q2营收3.95亿元,同比-18.23%;归母净利润0.11亿元,环比增长10倍;扣非净利润0.07亿元,环比扭亏为盈;毛利率22.14%,同比+4.57 pcts,环比+3.79 pcts。由于社会消费品和消费电子行业需求承压,公司营收同比有所下降,但是产品结构的优化带来毛利率同环比都有较大幅度提升,随着高附加值产品逐步大规模量产,公司盈利能力有望持续提升。公司自主研发了光刻机设备,拓展了光伏铜电镀的图形化设备、AR-HUD等新业务,为公司培育新的利润增长点。公司的光刻设备已经向国内某芯片龙头企业销售,并向国内厂商提供用于IC芯片投影式光刻机的核心部件定位光栅尺产品。曝光设备在光伏铜电镀环节占设备投资的1/3以上,决定了栅线宽度,是铜电镀的核心设备。公司第一代铜电镀设备样机已给部分客户验证,使用投影式技术,均匀性高,稳定可靠。投影式技术来源于半导体行业技术,公司将半导体中使用的成本高昂的紫外光源、nm级别的掩模版、大镜头改为了使用LED可见光、微米级别掩模版、小镜头阵列,将成本大幅度下降。公司已经可以做到8微米精度,客户要求15-20微米就足够。效率已经做到8000片/小时,第二代样机在镜头拼接上提高了稳定性,第三代样机可以提高生产节拍,降本增效。公司透明导电膜、超薄高亮导光、前光材料等高附加值业务收入比重快速增加,另外新一代证卡防伪材料、光刻机、光伏铜电镀图形化设备、AR-HUD投影屏等领域的测试与验证工作开展顺利。