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三星成功流片3nm GAA技术，延续摩尔定律，全球半导体行业继续高景气。三星的3nm GAA工艺相较于5nm工艺，逻辑面积效率提高了35%以上，功耗降低了50%，性能提高了约30%。随着三星3nm GAA制程的成功流片，距离三星3nm GAA工艺的量产又近了一步。台积电预计在2023年下半年可望进入GAA风险性试产，2024年正式量产。全球芯片短缺的大格局下，上游原材料端的紧缩辐射到了下游应用端，芯片厂商预计重点扩大产能，同时将上调产品价格。
