晶圆产线
随着先进制程向7nm以下推进,晶圆、电子化学品、电子特气、靶材等材料对金属杂质控制要求提升至PPT级(万亿分之一),传统光谱技术检测限不足,ICP-MS凭借极低检测限和多元素同步检测能力,成为半导体痕量金属检测主流方案。
玻璃基板
金属杂质会显著破坏玻璃基板的绝缘性与介电稳定性,还会对CTE(热膨胀系数)产生影响。从显示玻璃向半导体封装级玻璃升级,对材料性能要求成倍提升,ICP-MS成为玻璃基板良率的关键量测环节。
莱伯泰科技谱仪
莱伯泰科质谱仪ICP-MS、ICP-MS/MS是国内唯一通过国际半导体产业协会双认证的国产质谱仪。旗下ICP-5000对标目前国内主流的安捷伦8800,为半导体全产业链提供关键检测方案。