据媒体报道,中国已开始生产自主研发的浸没式深紫外光刻机(DUV),预计将在今年内交付给中芯国际、华虹半导体和长鑫存储等主要芯片制造商。此次交付标志着国产DUV光刻机正式进入量产阶段,尤其是在美国考虑进一步收紧对中国光刻设备出口及在华维修服务限制的背景下,该技术为中国芯片制造商提供了关键设备的替代来源。
业内观点认为:1. 交付是合理的,符合预期,节点已到;2. 技术上仍是第一代,无法对标目前主流的EUV(1980nm)技术,仍需几代提升。