国联民生电新微导纳米更新250924对于硫化物制备ALD

对于硫化物制备，ALD可降低硫化氢的形成，无针孔涂层提供了一个稳定的保护层，减少NMC/硫化物界面电阻，ALD包覆后的负极循环有望更加稳定。 公司ALD技术应用涵盖电解质和极片之间的复合包覆，也可应用于电解质内部本体包覆，与头部企业合作研发中。 #半导体ALD&CVD，ALD（原子层沉积）和CVD（化学气相沉积）设备并行推进，具 【国联民生电新】微导纳米更新250924 对于硫化物制备，ALD可降低硫化氢的形成，无针孔涂层提供了一个稳定的保护层，减少NMC/硫化物界面电阻，ALD包覆后的负极循环有望更加稳定。 公司ALD技术应用涵盖电解质和极片之间的复合包覆，也可应用于电解质内部本体包覆，与头部企业合作研发中。 #半导体ALD&CVD，ALD（原子层沉积）和CVD（化学气相沉积）设备并行推进，具备显著的市场竞争力。 目前在手订单约15亿元，2025年或实现新签订单同比+50%。 CVD上半年新签订单同比+70%，其中7-8成订单来自存储客户。 盈利方面，ALD设备毛利率高达40-50%，净利率接近20%。 ALD和CVD合计市场空间测算百亿级别，尤其是高温液膜CVD及金属化合物、High-k材料装备已批量化生产，先进存储需求及制程进步带来沉积工序和新膜层种类增多，国产替代空间较大。 #光伏设备：聚焦TOPCon技术路线，氧化铝钝化层设备市占率约70-80%。 目前在手订单达45亿元，验收周期为6-14个月，主要来自T/L/A/J等头部企业。 设备毛利率约40%，公司正积极布局钙钛矿等未来应用方向，部分产品已经过客户验收。