光刻:自主可控核心环节,国产替代迫在眉睫
关键数据与重点信息:
- 光刻工艺:芯片制造流程中技术难度最大、成本最高、周期最长的环节,直接决定芯片最小线宽。
- 光刻机核心参数:分辨率、套刻精度、产能。
- 光刻机核心组件:光源、照明系统、投影物镜。
- 全球光刻机市场:ASML、Nikon、Canon三大供应商高度垄断。
- 国产光刻机:上海微电子是国内唯一前道晶圆制造光刻机整机制造商。
- 国产替代需求:国内需求大于国产供给,2023年我国光刻机产量为124台,需求量为727台。
- 产业链齐发力:上海微电子、国科精密、科益虹源、茂莱光学等厂商加速进行相关组件研发。