AI智能总结
证券研究报告2024年06月25日 国内涂胶显影设备龙头,布局化学清洗和先进封装芯源微(688037.SH)首次覆盖 核心结论 【核心结论】预计2024-2026年公司营收分别为20.92/27.89/36.25亿元,归母净利润为3.26/4.34/5.76亿元。公司涂胶显影产品成功打破国外厂商垄断并填补国内空白,同时积极布局化学清洗与临时键合及解键合设备打开长期成长空间,首次覆盖,给予公司“增持”评级。 【主要逻辑】 涂胶显影设备是光刻工序关键设备,是唯一与光刻机联机作业的核心工艺设备,行业进入门槛高,目前国产化率依然较低,该市场长期被日本厂商垄断,本土厂商芯源微实现突破。芯源微作为国内唯一可以提供量产型前道涂胶显影机的设备商,2018年推出首台前道Track,经过多年发展,积累了工艺达标、光刻机联机作业、稳定运行的宝贵经验,完成了与数十台光刻机的成功联机量产。公司产品型号覆盖度不断提升,offline、I-line、KrF节点产品已实现量产,ArF浸没式机台正加速推进产业化,公司二季度新签订单情况良好,随着客户认可度的提升,公司市场份额有望实现不断增长。 分析师 我们测算2023年中国大陆前道涂胶显影设备市场规模为10.15亿美元,预计2025年增长到13.17亿美元。目前前道涂胶显影设备主要被日本东京电子所垄断,在全球市占率高达90%,涂胶显影设备国产替代迫切。公司作为国内唯一可以提供量产型前道涂胶显影机的设备商,相关产品成功打破国外厂商垄断,前道涂胶显影设备已完成在晶圆加工环节28nm及以上工艺节点全覆盖,28nm以下工艺技术正在验证中,有望充分受益涂胶显影设备国产替代趋势。 贺茂飞S080052111000118217567458hemaofei@research.xbmail.com.cn 相关研究 积极布局化学清洗、临时键合及解键合等领域,打开成长空间。公司目前已经成为国内前道物理清洗设备龙头,化学清洗机已于2023年第四季度获得国内知名客户验证性订单,未来有望逐步放量。键合设备方面,目前芯源微可应用于Chiplet等领域的新产品临时键合机、解键合机也实现国内多家客户订单导入,进一步打开先进封装市场增长空间。 风险提示:新产品推广不及预期的风险,行业竞争风险,宏观环境风险 内容目录 投资要点..................................................................................................................................5关键假设.............................................................................................................................5区别于市场的观点..............................................................................................................5股价上涨催化剂..................................................................................................................5估值与目标价......................................................................................................................5芯源微核心指标概览................................................................................................................6一、国内涂胶显影设备龙头,产品打破国外垄断...................................................................71.1深耕涂胶显影设备领域二十载,产品打破国外垄断.....................................................71.2财务分析:营收稳步增长,高研发投入保障长期发展.................................................9二、涂胶显影设备是光刻工序的关键设备,国产替代前景广阔...........................................122.1涂胶显影是光刻工艺的重要环节................................................................................122.2市场空间:测算2023年中国大陆前道涂胶显影设备市场约为10.15亿美元............162.3竞争格局:日系厂商垄断涂胶显影市场,国产替代需求迫切....................................19三、布局化学清洗、临时键合及解键合等领域,打开成长空间...........................................263.1单片式湿法设备市场集中度较高,公司已成为国内前道物理清洗设备龙头...............263.2临时键合及解键合设备获国内多家客户订单导入......................................................30四、盈利预测.......................................................................................................................334.1盈利预测....................................................................................................................334.2相对估值....................................................................................................................34五、风险提示.......................................................................................................................35六、附录..............................................................................................................................35 图表目录 图1:芯源微核心指标概览图..................................................................................................6图2:芯源微主要产品演变与技术发展历程.............................................................................7图3:芯源微主要产品矩阵与应用...........................................................................................8图4:公司2018年至24年一季度营业收入与增速.................................................................9图5:2018-2023年公司各产品营收占比................................................................................9图6:公司2018年至24年一季度归母净利润与增速...........................................................10图7:公司2018年至24年一季度扣非归母净利润与增速....................................................10图8:2018年至24年一季度公司毛利率与净利率水平........................................................10图9:2018-2023年公司分产品毛利率..................................................................................10图10:2018-2023年公司期间费用率...................................................................................11 图11:2018年至24年一季度公司研发费用与增速..............................................................11图12:公司合同负债及增速..................................................................................................12图13:光刻工艺主要流程......................................................................................................12图14:涂胶与显影工艺流程..................................................................................................12图15:Inline涂胶显影设备与光刻机联机作业......................................................................13图16:涂胶显影机产能与光刻机匹配(产能单位WPH)....................................................13图17:涂胶显影设备内部由多个单元组成............................................................................14图18:芯源微KS-FT(III)300 Track设备内部结构................................................................14图19:芯源微涂胶显影设备验证过程...................................................................................15图20:涂胶显影