集成电路制造专家交流纪要20240523

A1： 在半导体制造设备领域中，薄膜沉积技术 占据着举足轻重的地位。薄膜沉积技术主要用 于在半导体基片上形成各种功能的薄膜层，这 些薄膜层是构成半导体器件的基础。薄膜沉积 的产值在整个半导体制造设备产值中接近 25%，显示出其重要性。同时，由于薄膜沉积技 术的复杂性和高难度，其国产化率相对偏低， 但也因此成为了国内半导体制造企业技术攻关的重要方向。 Q2： 为什么薄膜沉积技术的国产化率相对偏低？ A2： 薄膜沉积技术的国产化率相对偏低，主要 源于其技术难度较高。薄膜沉积技术涉及到复杂的物理、化学过程，对设备精度、材料纯度和 工艺控制等方面都有极高的要求。此外，由于 国外企业在薄膜沉积技术领域拥有较为成熟的 技术和丰富的经验，因此在市场上占据了一定 的优势。这些因素共同导致了薄膜沉积技术的国产化率相对偏低。 Q3： 近三年国产化设备在薄膜沉积领域的增速如何？ A3： 近三年来，国产化设备在薄膜沉积领域的 增速较快。这主要得益于中国在半导体制造领域的快速发展和技术进步。中国在设计、封装 测试、制造等半导体制造产业链的重要环节上 都取得了显著的进步，为国产化设备的推广和 应用提供了有力支持。同时，国内企业也加大了对薄膜沉积技术的研发投入，不断推出具有 竞争力的新产品和解决方案，进一步提升了国产化设备在市场上的竞争力。 Q4： 薄膜沉积领域的国产化竞争对手有哪些？ A4： 在薄膜沉积领域，国产化设备面临着来自 国际知名企业的竞争。主要的竞争对手包括美 国的应用材料公司 (AMAT) 、 日本的东京电子 (TEL) 和荷兰的 ASM 等。这些企业在薄膜沉积技术领域拥有较为成熟的技术和丰富的经验，在市场上占据了较大的份额。然而，随着国内企业的技术进步和市场拓展，国产化设备在薄膜沉积领域的竞争力也在不断提升。 Q5： 国内有哪些在薄膜沉积领域具有竞争力的厂商？ A5： 在薄膜沉积领域，国内 已经涌现出一批具有 竞争力的厂商。在化学气相沉积 (CVD)领域， 沈阳拓荆凭借其先进的技术和稳定的性能，成为了国内该领域的领军企业。在物理气相沉积(PVD) 领域，中微和北方华创等企业也取得了 不俗的成绩。此外，在原子层沉积 (ALD)领域，微导纳米等企业也展现出了强大的竞争 力。这些企业在薄膜沉积技术的研发和应用方面取得了显著进展，为国产化设备的推广和应用做出了重要贡献。 Q6： 在薄膜沉积领域，北方华创代表了国内怎样的技术水平？ A6： 北方华创在薄膜沉积领域代表了国内的最 高技术水平。该公司凭借其在半导体制造设备 领域的深厚积累和不断创新的精神，成功开发 出了多款具有国际先进水平的薄膜沉积设备。 这些设备在精度、稳定性和可靠性等方面都达 到了国际领先水平，得到了广大客户的认可和 好评。北方华创的技术实力和市场地位也为其在薄膜沉积领域的竞争提供了有力保障。 Q： 薄膜沉积设备的上下游企业之间的供研关系是怎样的？ A： 薄膜沉积设备的上下游企业之间存在着相对 开放的供研关系。在供应链中，下游厂商通常 会 选择与国内细分领域的头部厂商进行合作， 以确保设备的质量和稳定性。然而，在某些情 况下，下游厂商也会考虑与像陛通半导体这样 的非上市公司进行合作。这种多元化的合作方 式有助于下游厂商获得更广泛的技术支持和市场资源。 Q： 陛通半导体作为非上市公司，在薄膜沉积设备市场中具有哪些优势？ A： 陛通半导体作为非上市公司，在薄膜沉积设 备市场中具有显著的优势。首先，其产品以优质的服务和较低的价格吸引了众多客户。其 次，由于陛通半导体成立时间较早，其技术水 平在行业内处于领先地位，并与多家头部企业 建立了密切的合作关系。这些优势使得陛通半导体在薄膜沉积设备市场中具有较强的竞争力。 Q： 新设备的测试周期为何如此之长？都包括哪些方面的测试？ A： 新设备的测试周期之所以长达 9-18 个月，是因为需要全面评估设备的性能和稳定性。测试 内容主要包括薄膜沉积的速度、均一性和表面 缺陷等方面。这些测试旨在确保设备在生产过 程中能够稳定、高效地运行，并满足客户的需 求。由于测试内容复杂且耗时较长，因此新设备的测试周期也相应较长。 Q： 翻修设备在市场上的应用情况如何？ A： 翻修设备在市场上的应用情况良好。目前， 翻修设备在 8 寸领域已经实现了产线全覆盖，能够满足大部分客户的需求。然而，在高尺寸 领域，翻修设备的应用相对较少，这主要是由 于高尺寸设备的制造难度和成本较高所致。尽 管如此，随着技术的不断进步和成本的降低，未来翻修设备在高尺寸领域的应用也有望逐渐增 加 。 Q： 国内外薄膜沉积设备在哪些方面存在差距？ A： 国内外薄膜沉积设备在多个方面存在差距。 其中最为明显的差距体现在 ALD (原子层沉积)领域。由于 ALD 技术节点较高，国内设备 在技术和性能上与国外设备相比仍有一定差距。目前，国内 ALD 设备在 14 寸的研发和 28寸的量产方面已经取得了一定进展，但国产化率仍然较低，大约在 10%左右。此外，国内外 设备在使用和运营上也存在差距，国内设备在使用过程中故障率较高，但维修服务相对 较 好。 Q： 未来薄膜沉积设备的发展趋势是什么？ A： 未来薄膜沉积设备的发展趋势可能向同类型 材料和工艺领域的集成化方向发展。这意味 着设备将具备更广泛的适用性和更高的生产效 率，能够满足更多样化的生产需求。此外，随 着技术的不断进步和成本的降低，未来薄膜沉 积设备在性能、稳定性和可靠性方面也将 得到 进一步提升。同时，随着环保意识的提高和能 源结构的转型，薄膜沉积设备在绿色制 造和可持续发展方面也将面临更多机遇和挑战。