AI智能总结
产业观察 产业研究中心 2024.01.07,32期 作者:朱峰 电话:021-38676284 邮箱:zhufeng026011@gtjas.com资格证书编号:S0880522030002 作者:鲍雁辛 电话:0755-23976830 邮箱:baoyanxin@gtjas.com 资格证书编号:S0880513070005 【数字经济周报】激光雷达企业速腾聚创成功港股上市 摘要:数字经济动态事件速览(2023.12.30-2024.1.5) 半导体板块动态 (1)韩国半导体出口大跌23.7% (2)英特尔成立新AI公司 (3)许可证被取消,两款光刻机禁止出口中国 汽车电子板块动态 往期回顾 (1)上海:扩大自动驾驶开放测试道路覆盖范围 【氢周一见】阳光氢能完成A轮6.6亿元人民币融资 2024.01.07 【氢周一见】元泰能材获数千万元天使轮融资 2024.01.03 【电子材料双周报】鼎龙股份投资8.04亿元建设KrF、ArF光刻胶产业化项目 2024.01.03 【数字经济周报】英伟达发布面向中国市场RTX4090D显卡 2024.01.01 【数字经济周报】小米汽车发布首款车型SU7 2023.12.31 (2)激光雷达企业速腾聚创成功港股上市 (3)马瑞利CES2024技术前瞻:软件定义座舱体验 (4)小鹏汽车XNGP新增覆盖191座城市,总覆盖城市数量达243城 AI板块动态 (1)让机器人感知你的「Hereyouare」,清华团队使用百万场景打造通用人机交接 (2)骁龙888实时运行,美团、浙大等打造全流程移动端多模态大模型MobileVLM 元宇宙板块动态 (1)高通推出第二代骁龙XR2+平台:支持单眼4.3K分辨率及90fps刷新率 (2)谷东科技推出两款AR领域新型光致聚合物材料,显著提升光学性能 风险提示 (1)市场竞争风险 (2)技术进步不及预期的风险 (3)市场需求增长不及预期的风险 目录 1.半导体板块动态3 1.1.韩国半导体出口大跌23.7%3 1.2.英特尔成立新AI公司4 1.3.许可证被取消,两款光刻机禁止出口中国5 2.汽车电子板块动态6 2.1.上海:扩大自动驾驶开放测试道路覆盖范围6 2.2.激光雷达企业速腾聚创成功港股上市6 2.3.马瑞利CES2024技术前瞻:软件定义座舱体验7 2.4.小鹏汽车XNGP新增覆盖191座城市,总覆盖城市数量达243 城8 3.AI板块动态9 3.1.让机器人感知你的「Hereyouare」,清华团队使用百万场景打造通用人机交接9 3.2.骁龙888实时运行,美团、浙大等打造全流程移动端多模态大模型MobileVLM9 4.元宇宙板块动态10 4.1.高通推出第二代骁龙XR2+平台:支持单眼4.3K分辨率及90fps 刷新率10 4.2.谷东科技推出两款AR领域新型光致聚合物材料,显著提升光学性能11 5.风险提示12 5.1.市场竞争风险12 5.2.技术进步不及预期的风险12 5.3.市场需求增长不及预期的风险12 1.半导体板块动态 1.1.韩国半导体出口大跌23.7% 2024年1月1日,韩国产业部公布的数据显示,由于芯片表现低迷以及全球经济不确定性,2023年韩国出口同比下降7.4%。根据产业通商资源部编制的数据,2022年的出口额为6,326亿美元。2023年进口同比下降12.1%至6427亿美元,导致贸易逆差99.7亿美元。工信部将2023年出口低迷归因于全球货币紧缩举措,以及中国经济复苏迟缓。尽管如此,报告指出,2023年汽车出口依然稳定,半导体出口量也逐渐恢复。12月份月度出口同比增长5.1%至576亿美元,连续第三个月增长。 出口是韩国经济增长的主要引擎,在连续13个月同比下降后,10月份出现反弹。12月进口同比下降10.8%至531亿美元,贸易顺差44.8亿美元。这标志着出口连续第二个月超过进口。分行业看,12月份芯片出口同比增长21.8%,达到110亿美元,连续两个月增长,再次出现反弹迹象。该部表示,在新移动产品的发布和企业对人工智能领域投资增加的推动下,预计半导体产品出口未来将保持复苏。2023年全年,半导体出口额同比下降23.7%,至986亿美元。2023年12月,国内半导体出口创历史最高年增长率。三星电子和SK海力士的主要出口产品存储半导体的价格持续上涨。 2023年12月,韩国半导体出口额达到110亿美元,同比大幅增长21.8%。 自2022年8月以来,半导体出口持续下滑,但2023年11月出现反弹,增幅达12.9%,标志着时隔16个月出现好转。连续两个月正增长,行业给2023年画上了圆满的句号。内存产品,特别是DRAM和NAND的价格也在稳步上涨。根据全球市场研究公司DRAMeXchange的数据,12月份以8GBDDR4为特色的PCDRAM通用产品的平均固定交易价格为 1.65美元,较11月份上涨6.45%。经过两年多的下滑后,DRAM价格于去年10月成功反弹,经历了连续三个月的增长。同期,NAND通用产品,包括采用16Gx8MLC技术的容量为128GB的存储卡和USB设备的价格也持续上涨。这主要归因于主要供应商减少了产量。去年年初,存储器行业启动了减少晶圆投入的举措,以应对需求急剧下降的情况。受此影响,库存逐渐减少,目前有主要需求源再次下单的趋势。 生成式人工智能市场的扩张进一步推动了对存储半导体的需求。NVIDIA和AMD等美国公司正在将SK海力士等公司生产的高带宽内存(HBM)纳入专为人工智能计算任务设计的图形处理单元(GPU)中。HBM市场涉及捆绑多个DRAM模块以提高数据传输速度,预计将从2023年的15亿美元大幅增长至2025年的56亿美元,增长3.7倍。 “设备端人工智能”的出现正在成为一种积极趋势,它允许智能手机和个人电脑等设备在没有网络连接的情况下执行人工智能任务。从1月中旬三星电子智能手机GalaxyS24的发布开始,人工智能功能将被整合到苹果iPhone16等设备中。 由于对具有更高能效的环保型号的需求不断增长,家用电器的海外销售额小幅增长2.9%,达到5.91亿美元。按目的地划分,美国自2003年6月以来首次成为韩国商品的最大出口目的地,出口额增长20.8%,达到 112亿美元。该部表示,强劲的表现源于汽车和机械产品以及芯片、移动产品、家用电器和钢铁的强劲出货量。 另一方面,由于房地产行业低迷导致钢铁需求疲软,12月份对中国的出口同比下降2.9%,至109亿美元。2023年全年,对美国的出口额为1157亿美元,同比增长5.4%,而对中国的出口额则下滑19.9%,至1248亿美元。 (来源:半导体行业观察https://mp.weixin.qq.com/s/dEzbNg0MSKnA6o_4d5neOw) 1.2.英特尔成立新AI公司 2024年1月3日,英特尔(INTC.O)表示,在专注于数字的资产管理公司DigitalBridgeGroup和其他投资者的支持下,该公司正在围绕其人工智能软件业务组建一家新的独立公司。英特尔高管表示该公司将拥有独立董事会,并且该芯片制造商将继续是股东。 英特尔使用自己的一台超级计算机开发了一种生成式人工智能系统,该系统可以结合开源和内部开发的技术来读取文本和图像。随后,英特尔修改了该系统,使其在BCG自己的数据中心内运行,以帮助解决BCG的隐私和安全问题。 英特尔公司和全球投资公司DigitalBridgeGroup,Inc.1月3日宣布成立的Articul8AI,Inc.(Articul8)是一家独立公司,为企业客户提供全栈、垂直优化且安全的生成人工智能(GenAI)软件平台。该平台提供人工智能功能,将客户数据、培训和推理保留在企业安全范围内。该平台还为客户提供云、本地或混合部署的选择。 Articul8是利用英特尔开发的知识产权(IP)和技术创建的,两家公司将在进入市场的机会上保持战略一致,并合作推动GenAI在企业中的采用。英特尔数据中心和人工智能集团前副总裁兼总经理ArunSubramaniyan已担任Articul8首席执行官。 DigitalBridgeVentures是DigitalBridge的风险投资公司,担任Articul8的主要投资者。此外,英特尔与FinCapital、MindsetVentures、CommunitasCapital、GiantLeapCapital、GSFutures和ZainGroup等知名风险投资者财团一起入股了该公司。 Articul8提供交钥匙GenAI软件平台,可提供速度、安全性和成本效益,帮助大型企业客户实施和扩展人工智能。该平台在英特尔硬件架构上推出并优化,包括英特尔至强可扩展处理器和英特尔Gaudi加速器,但将支持一系列混合基础设施替代方案。继波士顿咨询集团(BCG)早期部署该技术后,该团队已将该平台扩展到需要高水平安全性和专业领域知识的行业领域的企业客户,包括金融服务、航空航天、半导体和电信。 作为一家得到行业投资支持的独立公司,Articul8将能够加速其上市战略,并为更广泛的GenAI生态系统扩展其产品供应。 (来源:半导体芯闻https://mp.weixin.qq.com/s/syMNRXYz2NSdoH7rq9hK-w) 1.3.许可证被取消,两款光刻机禁止出口中国 2024年1月2日,ASML发布公告称,近日荷兰政府部分撤销了此前颁发的NXT:2050i和NXT:2100i光刻机在2023年发货的出口许可证,这将对我们在中国的个别客户产生影响。ASML预计,此次出口许可证撤销及最新的美国出口管制限制不会对我们2023年的财务情况产生重大影响。他们在公告中表示,在近期与ASML的沟通中,美国政府对其出口管制的适用范围和影响进行了进一步澄清。美国2023年10月17日发布最新出口管制规则,限制向个别先进芯片制造晶圆厂发运特定型号的中高端DUV浸润式光刻机。ASML重申,将持续致力于遵守经营所在国家/地区所有适用的法律和法规,包括出口管制法规。 据ASML介绍,TWINSCANNXT:2050i是一款高生产率、双级浸没式光刻工具,专为在先进节点批量生产300毫米晶圆而设计。TWINSCANNXT:2050i基于面向未来的NXT4平台而构建,突破了重叠限制,并为浸没式光刻系统提供了无与伦比的生产力。TWINSCANNXT:2050i是最先进的浸没式光刻系统设计与先进镜头设计的结合,其数值孔径(NA)为1.35,这是目前半导体行业中最高的。该步进扫描系统是一款高生产率的双级工具,专为批量生产而设计。通过将高生产率与前所未有的覆盖性能相结合,该系统满足了多种图案化要求,为在先进逻辑和DRAM节点制造300毫米晶圆提供了经济高效的解决方案。 氟(F2)光源光刻技术。就像艺术家希望用细线笔代替记号笔来绘制更精确、更详细的图片一样,这种向更小波长的重大转变是业界希望继续缩小晶体管并在芯片上实现更多计算能力和存储功能的希望。然而,意想不到的事态发展证明了将工程推向极限的风险,但物理定律并不同意。当第一个157纳米光刻系统的工程设计完成时,采用氟化钙透镜作为这些系统中的新型光学器件被认为具有挑战性但又可行。然而,实际原型光刻系统的成像实验揭示了显著的双折射效应。更糟糕的是,这种效应是氟化钙固有的,远远超出了成像规格。由于明显的光刻路线图似乎已经陷入停滞,芯片行业陷入了困境。2001年12月,ASML研究员JanMulkens(现为ASMLFellow)参加了在美国举行的157纳米光刻行业会议,行业专业人士齐聚一堂,共同确定下一步可能采取的措施。他们的讨论集中在在镜头下添加一层纯净水以提高分辨率,这是一种光学现象,由显微镜先驱RobertHooke和AntonivanLeeuwenhoek首先发现并利用,并在20世纪80年代首次被IBM描述用于光刻。Jan和他的同事意识到,这种光学技术可以进一步扩展193纳米光刻