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光刻机是芯片制造的支柱设备，是将掩膜板上的图形曝光至预涂了光刻胶的晶圆表面上的过程。光刻机设备的核心零部件包括光源、镜头以及精密结构等。光刻机从分类方式的演变，从接触式向接近式，最后演变成步进式为主。2020年，全球光刻机市场约135亿美元，占全球半导体制造设备市场21%。光刻机市场一直以来在全球设备市场中的比重都较高，具有较高技术难度，并且单台设备价值量也较高，属于半导体制造设备的“皇冠”。 光刻机单机价值量高，每年出货数量约300~400台，其中EUV的供应比较有限。根据ASML、Nikon、Canon三家光刻机财报数据统计，近两年全球光刻机每年出货量大约在300~400台之间，整体均价约0.3亿美元。其中主要产品是KrF约90~100台，ArFi约90~100台。近几年EUV出货量在逐步增长，全球仅有ASML具备供应能力，每年出货30~50台，均价超过1亿美元。 ASML主导全球光刻机市场。从光刻机格局来看，2020年ASML占据全球光刻机市场84%的市场空间，Nikon约7%，Canon约5%。ASML具有高度的垄断地位，并且由于EUV跨越式的升级进步，ASML在技术上的领先性更加明显。 全球光刻机龙头ASML，高研发、高利润率。ASML在2020年营业收入140亿美元，其中75%的收入来自于销售设备，25%的收入来自于服务。公司综合毛利率52%，营业利润率35%，净利率32%。全年平均ROE约27%。公司研发投入22亿美元，占比约16%。ASML保持高强度研发投入，并且服务收入占比不断提高，巩固垄断地位。 上海微90nm光刻机项目已经正式通过验收。上海微在2002年成立。2006年公司光刻机产品注册商标获得国家工商局批准。2008年十五光刻机重大科技专项通过了国家科技部组织的验收。2009年
