中微公司是一家专注于半导体设备国产替代的公司，成立于2004年，创始团队均为国际半导体设备龙头企业的核心技术人员。公司已成功研制CCP刻蚀机、MOCVD设备和ICP设备，产品线不断拓宽，已成为国际领先的供应商。近年来，公司业绩稳健增长，半导体业务占比亦持续提高。2020年，公司定增落地，国家大基金二期参与认购，加码研发128层以上CCP刻蚀、大马士革刻蚀、7nm以下ICP、3nm以下ALE等项目。中微作为国内刻蚀设备龙头，截止2020年，CCP设备装机量达1159台，保持了30%的年均增速，而ICP设备亦已有55个反应腔运行于10位客户的产线。技术自主可控和先进制程能力是公司得以实现国产替代的核心优势，CCP设备已切入台积电5nm产线，技术达到世界领先水平。逻辑芯片的大马士革刻蚀、128层以上3D NAND刻蚀、用于GAA结构的ALE刻蚀等产品也已处于研发中。中微公司是化合物半导体设备的龙头，其MOCVD设备在全球市场占据70%以上的市场份额，用于miniLED、功率半导体和射频等应用。随着化合物半导体市场的快速发展，中微公司的业务空间将得到进一步打开。
