根据万联证券的电子行业快评报告，光刻机制造商ASML的2020年业绩再创新高，全年营收达139.79亿欧元，毛利率48.6%，较2019年44.7%有所提升。公司主要业务包括光刻机、电子计量系统和计算光刻，其中光刻机业务在高端光刻领域占据主导地位。公司通过收购Cymer和入股蔡司SMT，获取了激光光源、镜头等光刻机关键部件的领先技术，这两次并购加速了公司EUV光源和光学系统的研发进程。公司的主要客户是内存和逻辑芯片制造厂商，包括英特尔、三星、台积电、海力士等芯片头部厂商。自2012年开始，英特尔、台积电、三星陆续投资ASML共计约39亿欧元，取得23%的股份，并向其EUV研发项目提供资金13.8亿欧元，享受优先供货权。报告认为，光刻机设备是所有半导体设备中复杂度最高、精度最高、单台价格最高的，是现代工业的集大成者，由激光光源、物镜系统、机台设计等十一大模块组成，每个模块近乎集成了各国的顶尖技术。报告指出，光刻工艺包括气相成底膜、旋转涂胶、软烘、对准和曝光、曝光后烘焙、显影、坚膜烘焙、显影检查等环节，耗时约占整个硅片制造的50%。除光刻机外，光刻胶、气体、化学品、RTP、PVD设备等光刻机配套设施亦不可或缺。在国内相关产业链企业中，上海微电子日前宣称2022年交付28nm浸没式DUV光刻机，负责光刻机整机集成；ArF光源系统则由科益虹源负责；物镜系统方面，由国望光学承担；双工作台则由华卓精科负责研发；浸没系统则由启尔光电承担。从配套材料及设备来看，光刻胶方面，南大光电自产光刻胶已通过客户验证；设备方面，北方华创相关PVD/CVD设备已具备28/14nm技术；掩模版领域，华润微已具备0.13μ
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